拋光液拋光綜合了化學和機械拋光的優(yōu)勢：

單純的化學拋光：拋光速率較快、表面光潔度高、損傷低，但表面平整度和平行度差，拋光后表面*性差；

單純的機械拋光：表面*性好、表面平整度和平行度高，但表面光潔度差、損傷層深。拋光液拋光可以獲得較為*的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。

拋光膏和拋光粉的差別在于：拋光膏除開本身含有該粒度的優(yōu)質(zhì)拋光粉作為磨料以外，還含有濕潤劑、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑等配置而成。拋光膏集物理和化學原理于一身，效能比拋光粉相對更優(yōu)異。

拋光膏和拋光液的差別在于：拋光膏是粘度類似于牙膏狀的膏體，而拋光液是粘度類似于植物油狀的液體。拋光液相比拋光膏的流動性更好！

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液）、氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鉻拋光液和碳化硅拋光液等幾類。

碳化硅拋光液的特性如下:

我司碳化硅拋光液是以微米級碳化硅為磨料，再配以濕潤劑、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料。具有純度高、粒徑分布范圍小、比表面積高、微觀形狀呈六方晶體、化學性能穩(wěn)定、硬度高、高耐腐蝕性、懸浮穩(wěn)定性好、拋光后容易清洗等特點。

碳化硅拋光液廣泛應用于：

非金屬材料行業(yè)：太陽能硅片、半導體硅片、石英芯片、玉器寶石、光學玻璃、工藝品、水晶、石材、瑪瑙及高級珠寶玉器等材料的研磨拋光；

金屬材料行業(yè)：特殊鋼、硬質(zhì)合金和硬脆金屬，如銅、黃銅、鋁和鎂等有色金屬的精密拋光。

產(chǎn)品粒度： W0.3、W0.5、W1、W2、W3、W5、W7、W10等型號。

產(chǎn)品包裝：200毫升/瓶和500毫升/瓶。