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日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀
參考價: 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號
  • OTSUKA/日本大塚 品牌
  • 代理商 廠商性質(zhì)
  • 成都市 所在地

訪問次數(shù):251更新時間:2025-04-15 11:36:00

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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領(lǐng)域 綜合
日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供
采用線掃描方式檢測整面薄膜 硬件軟件均為創(chuàng)新設計 作為專業(yè)膜厚測定廠商,提供多種支援 實現(xiàn)高精度測量實現(xiàn)高速測量 不受偏差影響 可對應寬幅樣...
產(chǎn)品介紹

日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供

 

日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀

 

產(chǎn)品信息

特點

● 全面高速高精度進行薄膜等面內(nèi)膜厚不均一性檢測

● 硬件&軟件均為創(chuàng)新設計

● 作為專業(yè)膜厚測定廠商,提供多種支援

● 實現(xiàn)高精度測量

● 實現(xiàn)高速測量(500萬點以上/分)

 

 

 

產(chǎn)品規(guī)格

測量范圍 0.1~300 μm
測量寬度 250 mm
測量間隔 1 ms~
設備尺寸(W×D×H) 459×609×927 mm
重量 60 kg
功耗 AC100 V±10% 125 VA

 

測量例

250mm寬的薄膜案例

 

 

核心特點

  1. 微區(qū)測量能力:最小光斑直徑3μm,搭配自動XY平臺(200×200mm),實現(xiàn)晶圓、FPD(如OLED、ITO膜)等微小區(qū)域的精準厚度分布映射。

  2. 跨行業(yè)適用性:專為半導體(SiO?/SiN膜)、顯示面板(彩色光阻)、DLC涂層等行業(yè)設計,支持粗糙表面、傾斜結(jié)構(gòu)及復雜光學異向性樣品的分析。

  3. 安全與擴展性:區(qū)域傳感器觸發(fā)防誤觸機制,獨立測量頭支持定制化嵌入,滿足在線檢測(inline)與實驗室研發(fā)需求。

日本Otsuka大塚 薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供

 

  1. 非破壞性高速測量:采用顯微分光技術(shù),1秒內(nèi)完成單點對焦與測量,支持從紫外(230nm)到近紅外(1600nm)廣波長范圍,覆蓋1nm至92μm膜厚需求,滿足半導體、光學材料等高精度場景。

  2. 透明基板技術(shù):反射對物鏡設計,物理消除基板內(nèi)部反射干擾,實現(xiàn)玻璃、SiC等透明或異向性基板上的高精度膜厚測量,支持50層以上多層膜解析。

  3. 智能建模與易用性:內(nèi)置初學者模式,簡化光學常數(shù)(n/k)建模流程,支持宏功能自定義測量序列,可無縫集成自動化產(chǎn)線。



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