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光刻工藝設(shè)備產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝、LED、微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)曝光、LED光源、機(jī)器視覺(jué)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、高精度硅片承載...

CG-MLC6系列直寫(xiě)光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無(wú)需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列功能靈活、...

半自動(dòng)光刻機(jī)產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝、LED、微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)曝光、LED光源、機(jī)器視覺(jué)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、高精度硅片承載...

實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)CG-MLC6系列直寫(xiě)光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無(wú)需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-ML...