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2025年8月19日14:00,化工儀器網(wǎng)特聯(lián)合哈希水質[詳細]
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查看更多+國產光刻機技術的持續(xù)突破 將促進半導體設備國產化

《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024 年版)》中的電子專用裝備目錄下提到,集成電路生產設備方面包括化氟化氪光刻機,光源248納米,分辨率≤110nm,套刻≤25nm;氟化氬光刻機,光源193納米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。
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