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2021
08-13檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備 WO3 薄膜光電性質(zhì)的影響
檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜光電性質(zhì)的影響摘要:以偏鎢酸銨為鎢源,檸檬酸為絡(luò)合劑,聚乙二醇(PEG)為聚合物合成前驅(qū)體溶膠,并用浸漬提拉法在FTO導電玻璃上制備了WO3薄膜,研究配位劑檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜結(jié)構(gòu)和光電性質(zhì)的影響。采用X線衍射、拉曼光譜和場發(fā)射掃描電鏡等手段研究薄膜的相組成及表面形貌,借助標準三電極體系進行了光電化學測試,并進一步討論了檸檬酸對WO3薄膜光電性能影響機理。結(jié)果表明:CA和W摩爾比為0,0.5,1.0和2.0條件下薄膜表面顆粒平均尺寸分別為60,2021
08-122021
08-11真空鍍膜技術(shù)的原理在各大行業(yè)里的應(yīng)用
1、真空鍍膜機PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。2、真空鍍膜機PVD鍍膜和PVD鍍膜機PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應(yīng)于PVD技術(shù)的三個分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來,真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為當今的表面處理方式之一。我們通常所說的2021
08-102021
08-092021
08-062021
08-052021
08-042021
08-03等離子鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法
等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),等離子鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點,可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)2021
08-022021
07-302021
07-292021
07-292021
07-292021
07-292021
07-282021
07-282021
07-282021
07-282021
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