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2022
09-08

轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)在運(yùn)行時(shí)應(yīng)該要注意哪些呢？
轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。那么等離子清洗機(jī)在運(yùn)行時(shí)應(yīng)該要注意哪些呢？下面就由轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)廠家來(lái)給大家講講吧：1、正確設(shè)置等離子設(shè)備的運(yùn)行參數(shù)，按時(shí)設(shè)備使用說(shuō)明書來(lái)執(zhí)行；2、保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置，以確保等離子清洗機(jī)可以正常的啟動(dòng)；3、
2022
09-08

勻膠旋涂?jī)x的工作流程概述
勻膠旋涂?jī)x是把膠均勻地涂在基片上的一種機(jī)器。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。勻膠旋涂?jī)x的勻膠過(guò)程包括滴膠，高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。1、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。2、勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過(guò)程中重要的因素?；霓D(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動(dòng)和基片與空氣的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度。膜厚在很大程
2022
08-09

等離子清洗機(jī)如何對(duì)粉體進(jìn)行處理？
等離子清洗機(jī)是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。等離子體作用在粉體上，可以有目的地改變粉體的物理化學(xué)性質(zhì)，在保持粉體原有性能的前提下，賦予其表面新的性能，使其表面性質(zhì)由疏水性變?yōu)橛H水性或由親水性變?yōu)槭杷裕瑥亩纳品垠w粒子表面的浸潤(rùn)性，增強(qiáng)粉體粒子在介質(zhì)中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有機(jī)化合物中。等離子清洗機(jī)對(duì)粉體進(jìn)行處理過(guò)程有以下三個(gè)方面：1、等離子體處理是為了提高粉體的親水性，其主要工藝是利用He、Ar和O2、CO2、NH3等反應(yīng)氣體在粉體表面進(jìn)行物
2022
07-15

石墨電熱板在使用時(shí)這些事項(xiàng)要注意
石墨電熱板的面板采用耐酸堿、耐高溫的石墨材料，與其它產(chǎn)品相比，更具抗腐蝕、耐高溫的特點(diǎn)。適用于工礦企業(yè)、醫(yī)療衛(wèi)生、生化、科研等單位實(shí)驗(yàn)室做化學(xué)分析，物理測(cè)定，熱處理等物品的烘培，干燥和作其它溫度試驗(yàn)。使用注意事項(xiàng)：1、使用之前先把石墨電熱板上的殘留污漬用抹布清洗干凈，保證石墨電熱板表面沒(méi)有殘留的污垢異物等。2、清理完畢后在石墨電熱板上放置需要實(shí)驗(yàn)的燒杯、器皿等。然后打開石墨電熱板開關(guān)，當(dāng)電熱板處于工作狀態(tài)時(shí)開始實(shí)驗(yàn)即可。3、在設(shè)備工作過(guò)程中實(shí)驗(yàn)人員盡量不要遠(yuǎn)離石墨電熱板，這樣可以避免一些危險(xiǎn)狀況
2022
05-10

等離子清洗機(jī)的工作流程
隨著社會(huì)的發(fā)展及技術(shù)的需要，工業(yè)生產(chǎn)對(duì)生產(chǎn)材料的要求也不斷增強(qiáng)，如在微電子封裝工藝中，電子設(shè)備的小型化、高精度，對(duì)封裝工藝的可靠性提出了相應(yīng)的要求，高質(zhì)量的封裝技術(shù)可以提高電子產(chǎn)品的使用壽命。等離子清洗機(jī)是利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)
2022
04-13

等離子表面處理儀的作用及用途
等離子體是由被剝奪部分電子后的原子及原子團(tuán)電離產(chǎn)生的離子化氣體狀物質(zhì)，具有比氣態(tài)、液態(tài)、固態(tài)物質(zhì)都高的能量范圍，被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體是由離子、電子和中性粒子組成的中性集合體，在與材料表面撞擊時(shí)會(huì)將自己的能量傳遞給材料表面的分子和原子，產(chǎn)生一系列物理和化學(xué)過(guò)程。一些粒子還會(huì)注入到材料表面引起碰撞、散射、激發(fā)、重排、異構(gòu)、缺陷、晶化及非晶化，從而改變材料的表面性能。等離子表面處理儀是通過(guò)利用對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài)，利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、
2022
03-31

CIF真空趕酸系統(tǒng)隆重上市！----40分鐘搞定酸氣清除！
號(hào)外！號(hào)外！美國(guó)CIF公司真空趕酸系統(tǒng)隆重上市啦！看長(zhǎng)相一目?jī)A心！看設(shè)計(jì)無(wú)瑕，看質(zhì)量!CIF真空趕酸系統(tǒng)將傳統(tǒng)的常壓趕酸所需的3-4小時(shí)縮短到30-40分鐘（150度），大大提高趕酸效率，縮短了趕酸時(shí)間。另外，CIF整個(gè)真空趕酸系統(tǒng)為密閉系統(tǒng)，由隔膜真空泵提供真空，負(fù)壓運(yùn)行，將樣品中酸蒸汽通過(guò)冷凝、堿液中和活性炭吸附等方式收集，不外排！直到把酸氣趕到實(shí)驗(yàn)要求允許的量，避免了高濃度酸液對(duì)精密分析儀器損壞，延長(zhǎng)了儀器的使用壽命，保證了實(shí)驗(yàn)室人員安全，減少了環(huán)境污染。CIF真空趕酸系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：CIF
2022
03-23

高壓消解罐在使用時(shí)的注意事項(xiàng)有哪些？
高壓消解罐又叫水熱合成反應(yīng)釜，是化學(xué)實(shí)驗(yàn)室常用的小型高壓消解反應(yīng)器。主要用于快速消解難溶樣品，也可用于少量的合成反應(yīng)。在密閉環(huán)境中，樣品在強(qiáng)酸強(qiáng)堿和高溫高壓同時(shí)作用下達(dá)到快速消解之目的。高壓消解罐是利用罐體內(nèi)高溫高壓密封體系(強(qiáng)酸或強(qiáng)堿)的環(huán)境來(lái)達(dá)到快速消解難溶物質(zhì)的目的，可使消解過(guò)程大為縮短，且使被測(cè)組份的揮發(fā)損失降到*小，提高測(cè)定的準(zhǔn)確性。高壓消解罐具有外形美觀，結(jié)構(gòu)合理，操作簡(jiǎn)便，抗腐蝕性好等特點(diǎn)，消解效率高,能力強(qiáng),能消解許多傳統(tǒng)方法難以消解的樣品。是高校實(shí)驗(yàn)室、環(huán)境監(jiān)測(cè)，質(zhì)量監(jiān)督等科研
2022
02-11

勻膠旋涂?jī)x在使用過(guò)程中的使用注意事項(xiàng)
勻膠旋涂?jī)x操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，占地空間小，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案?？捎糜趯?shí)驗(yàn)室項(xiàng)目建設(shè).作為用于除半導(dǎo)體外,還有硅片、芯片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學(xué)之用。勻膠旋涂?jī)x的使用注意事項(xiàng)：1.使用前主要檢查設(shè)備與真空泵和氮?dú)馄康慕涌谑欠衤猓?.實(shí)驗(yàn)時(shí)，依次打開設(shè)備電源開關(guān)，氮?dú)?干燥氣體瓶閥門，真空開關(guān)，結(jié)束時(shí)，先關(guān)真空，再關(guān)氮?dú)?干燥氣體瓶閥門；3.氮?dú)?干燥氣體的壓力控制不宜過(guò)大建議氮?dú)馄繗鈮簭?.35MPa起緩慢上調(diào)，直至設(shè)備控制面板上的CDA停止閃爍即停止調(diào)整；
2022
01-14

紫外臭氧清洗機(jī)的保養(yǎng)技巧
紫外臭氧清洗機(jī)提供一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì),快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。作用是通過(guò)紫外光和臭氧將襯底表面的油脂和有機(jī)物氧化祛除，以達(dá)到清潔的效果。同時(shí)改變了襯底表面的親疏水性，優(yōu)化墨水在襯底上的打印效果。紫外臭氧清洗機(jī)的保養(yǎng)事項(xiàng)：1、在干燥通風(fēng)平穩(wěn)的位置安放設(shè)備。2、在對(duì)設(shè)備使用的過(guò)程，需要特別留心，不要對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行隨意地挪動(dòng)或者不能夠?qū)⒆贤獬粞跚逑礄C(jī)的上蓋打開，從而防止導(dǎo)致溢水的情況發(fā)生。3、在對(duì)設(shè)備使用結(jié)束以后，為了防止機(jī)器內(nèi)部
2021
12-14

來(lái)了解下等離子清洗機(jī)的清洗原理
固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)是人們每時(shí)每刻所感知的三種物質(zhì)狀態(tài)，這三種狀態(tài)的物質(zhì)是由原子和分子構(gòu)成。通過(guò)輸入能量(如熱量)，可實(shí)現(xiàn)物質(zhì)從一種狀態(tài)轉(zhuǎn)化為另一種狀態(tài)。當(dāng)氣態(tài)物質(zhì)被進(jìn)一步加熱到更高的溫度時(shí)，或是氣體在受到高能量的照射后，氣體物質(zhì)就轉(zhuǎn)化為第四態(tài)，即等離子體態(tài)。在這種狀態(tài)下，部分氣體原子已解離成電子和離子，也有一些在吸收能量后變成具有化學(xué)活性的亞穩(wěn)態(tài)原子。在這種狀態(tài)中，不但包含有一定能量的中性原子和分子，而且還有相當(dāng)量的帶電粒子、一定量的帶有化學(xué)活性的亞穩(wěn)態(tài)原子和分子。電離出的自由電子總的負(fù)電量與正離
2021
05-31

亞沸蒸餾酸純化系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)及原理
隨著ICP-MS、GC-MS等痕量、超痕量檢測(cè)技術(shù)的廣泛應(yīng)用，人們發(fā)現(xiàn)試劑不純帶來(lái)空白值高的問(wèn)題已經(jīng)制約了這些痕量檢測(cè)技術(shù)的實(shí)際應(yīng)用。同時(shí)，一些高純的金屬、半導(dǎo)體和其他材料領(lǐng)域，也對(duì)試劑的純度提出了更高的要求。為此，人們開始尋求各種試劑純化技術(shù)和設(shè)備，以獲得高純度的試劑，分析化學(xué)領(lǐng)域的科學(xué)家們也越來(lái)越來(lái)重視高純酸的再純化。亞沸蒸餾酸純化系統(tǒng)滿足您對(duì)痕量元素分析的所有需求。該設(shè)備是一款集純化、消解、趕酸、和清洗為一體的多功能的小型實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，既可用于實(shí)驗(yàn)室酸、堿溶液和有機(jī)溶劑的純化，也可以用做微型
2021
05-12

紫外臭氧清洗機(jī)為什么使用廣泛？
隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，清洗工藝在光電產(chǎn)品中是不會(huì)缺少的工藝，清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來(lái)越重要。如何保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率，且同時(shí)保證生產(chǎn)的安全性及生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)環(huán)境的保護(hù)?那么，對(duì)使用者來(lái)說(shuō)選擇高潔凈度，且又具有安全、環(huán)保性能的清洗設(shè)備尤為重要，在以往的清洗技術(shù)(化學(xué)清洗和物理清洗)中，很難達(dá)到要求。那在又安全又環(huán)保的前提下，如何*清除物體表面的污物?目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗，它能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染，同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^(guò)程縮短。紫外臭氧清洗機(jī)
2021
05-08

為使勻膠旋涂?jī)x達(dá)到預(yù)期的效果，在使用時(shí)應(yīng)注意這幾點(diǎn)
勻膠旋涂?jī)x快速啟動(dòng)和穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速，能夠保證膠厚度的一致性和均勻性。主要用于微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設(shè)備配合使用。適用于半導(dǎo)體工藝，制版及表面涂覆等工藝，可在科研、教育等單位作科研、教學(xué)之用。勻膠旋涂?jī)x的使用注意事項(xiàng)：1、在開機(jī)前，要抬起控制鍵以及吸片鍵，將電源開啟以后，分別將各鍵按下進(jìn)行操作，從而使沒(méi)有啟動(dòng)電機(jī)就轉(zhuǎn)動(dòng)得以避免。2、片子尺寸不一樣，選用的片托的尺寸也不一樣，厚度低于1.5毫米的片子對(duì)帶吸氣槽的片托進(jìn)行選用，厚度高于1.5
2021
04-27

紫外臭氧清洗機(jī)的應(yīng)用范圍
紫外臭氧清洗機(jī)在工作時(shí)是給臭氧發(fā)生器供電，臭氧發(fā)生器產(chǎn)生臭氧，由臭氧泵通過(guò)臭氧管輸送到洗菜機(jī)的洗滌桶中，在洗滌桶中與水機(jī)接觸，溶解在水中形成臭氧水，臭氧水具有很強(qiáng)的殺菌、消毒，降解農(nóng)藥作用。使用過(guò)后可將產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致，可*清除物體表面的碳和有機(jī)污染物，保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。紫外臭氧清洗機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域有：1、主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過(guò)程中采用光清洗方法較為合適。2、主要材料:IT0玻璃、
2021
04-25

真空趕酸系統(tǒng)是怎么進(jìn)行工作的？
在面對(duì)微波消解完趕酸過(guò)程中經(jīng)常遇到的趕酸時(shí)間長(zhǎng)、酸腐蝕嚴(yán)重存在的問(wèn)題，使用真空趕酸系統(tǒng)可以把原來(lái)的趕酸時(shí)間從原來(lái)的3-4個(gè)小時(shí)縮短到30-40分鐘之間，大大提高趕酸效率，并且通過(guò)堿液吸收，可避免酸氣的腐蝕，杜絕污染。真空趕酸系統(tǒng)采用集成式優(yōu)化設(shè)計(jì)系統(tǒng)包括真空回收系統(tǒng)、石墨加熱器兩大部分組成。石墨加熱器產(chǎn)生高溫加熱樣品，將樣品中酸蒸成酸蒸氣由真空泵抽到堿液收集瓶子中直到把酸氣趕到實(shí)驗(yàn)室允許的量，避免高濃度酸夜損壞儀器。真空系統(tǒng)加速蒸汽的形成和轉(zhuǎn)移，從而節(jié)省趕酸時(shí)間，由于每個(gè)樣品都是在獨(dú)立空間中完成
2021
04-23

酸蒸逆流清洗器的工作原理
潔凈的樣品前處理容器是獲得可靠分析結(jié)果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常壓消解罐、玻璃器皿（試管、燒杯、容量瓶等）等的痕量清洗，對(duì)于實(shí)驗(yàn)室人員來(lái)說(shuō)，始終是一個(gè)非常繁瑣而又非常重要的挑戰(zhàn)。使用酸蒸逆流清洗器可以解決這些問(wèn)題。酸蒸逆流清洗器能大大提高清洗效率，縮短清洗時(shí)間，終端酸過(guò)濾回收系統(tǒng)，可在密閉條件下進(jìn)行酸蒸餾超清洗，有效防止實(shí)驗(yàn)室污染。酸蒸逆流清洗器的工作原理利用酸亞沸狀態(tài)，產(chǎn)生純凈酸蒸汽。通過(guò)自然冷凝酸蒸汽與器皿表面接觸凝結(jié)成液珠，在重力條件下回流到桶內(nèi)，反復(fù)循環(huán)。將器皿表面的金屬離子
2021
04-20

紫外臭氧清洗機(jī)的使用注意事項(xiàng)
紫外臭氧清洗機(jī)在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。紫外臭氧清洗機(jī)提供一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。在使用紫外臭氧清洗機(jī)時(shí)應(yīng)注意以下事項(xiàng)：1、嚴(yán)格按機(jī)器規(guī)定加工范圍內(nèi)加工木料，否則將導(dǎo)致機(jī)器損壞和工作人員傷害，固化機(jī)應(yīng)有適當(dāng)屏敝裝備，紫外光不易透出。2、適當(dāng)?shù)膫€(gè)人防護(hù)，穿長(zhǎng)袖衣服、布工作手套，戴防紫外線眼鏡、面罩
2021
04-09

影響勻膠旋涂?jī)x勻膠效果的因素有哪些？
勻膠旋涂?jī)x可用于除半導(dǎo)體外,還有硅片、芯片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學(xué)之用高精度涂敷。影響勻膠效果的因素有勻膠速度、勻膠加速度、控制精度等因素。勻膠轉(zhuǎn)速：基片的轉(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的*湍動(dòng)和基片與空氣的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個(gè)階段，轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥（溶劑揮發(fā)
2021
03-29

亞沸酸蒸清洗器怎么使用？
潔凈的樣品反應(yīng)管是獲得正確分析結(jié)果的前提，傳統(tǒng)的清洗方法是把實(shí)驗(yàn)容器置于酸缸或熱酸中浸泡數(shù)小時(shí)甚至更長(zhǎng)時(shí)間，這種方法效率低、酸消耗量大，為了避免交叉污染，需要定期更換酸，否則將給實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)帶來(lái)巨大的風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于實(shí)驗(yàn)室人員來(lái)說(shuō)，始終是一個(gè)非常繁瑣而又非常重要的挑戰(zhàn)。而亞沸酸蒸清洗確保了痕量分析和超痕量分析的準(zhǔn)確性。亞沸酸蒸清洗器的使用方法：1、是一種自動(dòng)、密閉、酸蒸汽清洗方法。2、通過(guò)內(nèi)置可控溫加熱系統(tǒng)，利用亞沸狀態(tài)下產(chǎn)生的酸蒸汽，安全高效地對(duì)可溶于酸中的任何痕量金屬污染物進(jìn)行超凈清洗。3、熱蒸汽的高

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