光刻掩膜版photomask是微電子領(lǐng)域高精度光刻掩膜板,光罩、光掩模和X射線成像感光板,采用鹵化銀感光物質(zhì),也可用于同步加速器設(shè)備中的布拉格衍射X射線斷層攝影和X射線放射成像,性能不低于Agfa（Millimask）和柯達(dá)HR-P,TE板。
感光物質(zhì)壽命：12個(gè)月
成像觀察壽命：18個(gè)月。
光刻掩膜版具有高分辨率，高耐久性和*異的乳劑層與玻璃基底的粘附性能,具有2.5微米的攝像分辨率。
光刻掩膜版標(biāo)準(zhǔn)尺寸***406×300mm,玻璃襯底厚度為2.5mm。 所有光刻掩膜版都配有防暈涂層,我們也可根據(jù)客戶要求定制不同尺寸的掩膜版。
光刻掩膜版特性

訂購規(guī)格：
63x63mm-30片/包
51x254mm-12片/包
76x76mm-30片/包
102x102mm-30片/包
102x127mm-25片/包
127x355mm-12片/包


63x63mm尺寸包裝圖

102x127mm規(guī)格的包裝圖

180x240mm及其以上尺寸包裝圖
處理和處理建議
使用深綠色濾光片（透射區(qū)域-530nm及以下）在間接非光化光中開封,加工。 加工溶液溫度-20±2℃。 儲(chǔ)存條件：濕度65％和12-15攝氏度。