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520HE 納米壓印-透鏡三維壓印機

2025-04-07

產(chǎn)      地:
奧地利
所在地區(qū):
北京北京市
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EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓花系統(tǒng),可滿足高要求。


技術(shù)數(shù)據(jù)

EVG520 HE半自動熱壓花系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。 EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑大為200 mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓花系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓花的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。


特征

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓花和納米壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的獨立對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

氣動壓花選項

軟件控制的流程執(zhí)行


技術(shù)數(shù)據(jù)

加熱器尺寸150毫米200毫米

大基板尺寸150毫米200毫米

小基板尺寸單芯片100毫米

大接觸力10、20、60、100 kN

高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C

粘合卡盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng):150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200

200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,SmartView®NT

真空:標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴;      可選:0.00001 mbar


透鏡三維壓印機



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