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NS系列膜厚測量臺階儀采用了線性可變差動電容傳感器LVDC,具備超微力調節(jié)的能力和亞埃級的分辨率,同時,其集成了超低噪聲信號采集、超精細運動控制、標定算法等核心技術,使得儀器具備超高的測量精度和測量重復性。

臺階高度重復性能低于5A,Z0向測量量程可到1050um。最高垂直分辨率可達亞埃米級,且垂直方向動態(tài)比率高,可以獲取表面輪廓形貌、粗糙度、波紋度、形狀誤差及其它一些形貌特征等綜合信息。探針物理接觸測量結果穩(wěn)定可靠,重復性好,精準拿捏測量的輪廓形貌細節(jié)。

膜厚測量臺階儀


NS200膜厚測量臺階儀應用場景適應性強,其對被測樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無特殊要求,可測量沉積薄膜的臺階高度、抗蝕劑(軟膜材料)的臺階高度等。


產(chǎn)品功能

1.參數(shù)測量功能

1)臺階高度:能夠測量納米到330μm或1050μm的臺階高度,可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

2)粗糙度與波紋度:能夠測量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過計算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等數(shù)十項參數(shù)。

3)應力測量:可測量多種材料的表面應力。

2.測量模式與分析功能

1)單區(qū)域測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導航圖設置掃描起點和掃描長度,即可開始測量。

2)多區(qū)域測量模式:完成Focus后,根據(jù)影像導航圖完成單區(qū)域掃描路徑設置,可根據(jù)橫向和縱向距離來陣列形成若干到數(shù)十數(shù)百項掃描路徑所構成的多區(qū)域測量模式,一鍵即可完成所有掃描路徑的自動測量。

3)3D測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導航圖完成單區(qū)域掃描路徑設置,并可根據(jù)所需掃描的區(qū)域寬度或掃描線條的間距與數(shù)量完成整個掃描面區(qū)域的設置,一鍵即可自動完成整個掃描面區(qū)域的掃描和3D圖像重建。

4)SPC統(tǒng)計分析:支持對不同種類被測件進行多種指標參數(shù)的分析,針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計數(shù)據(jù)的變化趨勢。

3.雙導航光學影像功能

在NS200-D型號中配備了正視或斜視的500W像素的彩色相機,在正視導航影像系統(tǒng)中可精確設置掃描路徑,在斜視導航影像系統(tǒng)中可實時跟進掃描軌跡。

4.快速換針功能

NS系列膜厚測量臺階儀采用了磁吸式測針,當需要執(zhí)行換針操作時,可現(xiàn)場快速更換掃描測針,并根據(jù)軟件中的標定模塊進行快速標定,確保換針后的精度和重復性,減少維護煩惱。

膜厚測量臺階儀

磁吸針實物外觀圖(330μm量程)


行業(yè)應用場景

半導體制造:沉積/蝕刻薄膜厚度測量、CMP工藝表面平整度檢測、抗蝕劑臺階高度分析。

光伏與顯示面板:太陽能涂層膜厚、AMOLED屏微結構、觸控面板銅跡線測量。

MEMS與微納材料:微型傳感器形貌表征、柔性電子器件薄膜厚度檢測。

科研與高校:材料表面應力分析、微加工工藝研發(fā)數(shù)據(jù)支撐。

膜厚測量臺階儀


部分技術參數(shù)

型號NS200
測量技術探針式表面輪廓測量技術
探針傳感器超低慣量,LVDC傳感器
平臺移動范圍X/Y電動X/Y(150mm*150mm)(可手動校平)
樣品R-θ載物臺電動,360°連續(xù)旋轉
單次掃描長度55mm
樣品厚度
50mm
載物臺晶圓尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)
尺寸(L×W×H)mm640*626*534
重量40kg
儀器電源100-240 VAC,50/60 Hz,200W

使用環(huán)境

相對濕度:濕度 (無凝結)30-40% RH

溫度:16-25℃ (每小時溫度變化小于2℃)

地面振動:6.35μm/s(1-100Hz)

音頻噪音:≤80dB

空氣層流:≤0.508 m/s(向下流動)

懇請注意:因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

如有疑問或需要更多詳細信息,請隨時聯(lián)系中圖儀器咨詢。

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