磁控濺射鍍膜機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)：TSV1200-S

用途：磁控濺射PVD鍍膜，氮化鈦（TiN）、氮碳化鈦（TiCN）、氮化鋯（ZrN）、氮化鉻（CrN）、氮化鋁鈦（TiAIN）、碳化鈦（TiC）等

基材：不銹鋼,鋅合金,塑料

應(yīng)用：手機(jī)外殼，MP3外殼，數(shù)碼相機(jī)外殼，各種標(biāo)牌的裝飾改性加硬鍍膜

顏色：白色，金色， 銀色， 黑色 ， 蘭色等

基本參數(shù)：

● 真空室尺寸：1210mm（直徑）×1200mm（高）；

● 抽氣時(shí)間速：大氣到5×10-3Pa≤20min （空載, 冷態(tài),潔凈）；

● zui高烘烤溫度:300℃

● 采用側(cè)面對(duì)開門方式,便于工件裝卸；

● 2臺(tái)φ400mm口徑分子泵、1臺(tái)ZJP300型羅茨泵， 2臺(tái)2X-70型機(jī)械泵抽氣；

● 一套公、自轉(zhuǎn)工轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，采用下驅(qū)動(dòng)方式的二維平面行星機(jī)構(gòu)；自轉(zhuǎn)軸20根；

● 所有驅(qū)動(dòng)引入采用帶水冷套磁流體密封；

● 四對(duì)磁控濺射靶平行安裝且成圓周分布，靶材尺寸：910mm×120mm（長(zhǎng)×寬）；

● 4路進(jìn)口質(zhì)量流量計(jì)進(jìn)氣；

● 預(yù)濺射小車擋板，控制預(yù)濺射工藝；

● 三臺(tái)30KW中頻電源及一臺(tái)30KW脈沖偏壓電源；

● 控制系統(tǒng)采用觸摸屏上位機(jī)（工控機(jī)）+下位機(jī)（PLC）的控制形式

● 控制系統(tǒng)有手動(dòng)和自動(dòng)，全系統(tǒng)具有互保護(hù), 泵閥互鎖。

主要技術(shù)參數(shù)和配置：

（一）   真空系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)

1.       極限真空：優(yōu)于2x10^-3Pa；

2.       抽速:大氣到5x10^-3Pa≤30mm（空載、冷態(tài)，潔凈）；

  3.  壓升率：小于0.5Pa/hr.

 （二） 真空室和真空系統(tǒng)配置

  1.度模式尺寸：1210mm（直徑）x1200mm（高）;

  2.采用側(cè)面對(duì)開門方式,便于工件裝卸；

  3.外壁通冷卻水，冷卻水管采用半圓管焊接方式，焊縫美觀、平整；

  4. 3個(gè)觀察窗口，左右門上各一個(gè)，室體正前方一個(gè)；

  5. 抽氣室內(nèi)安裝一個(gè)旋轉(zhuǎn)擋氣擋板，旋轉(zhuǎn)角度范圍0~90°

  6．兩臺(tái)φ400mm口徑分子泵；

  7. 1臺(tái)ZJP300型羅茨泵，增加氣動(dòng)旁通閥；

  8. 2臺(tái)2x-70型機(jī)械泵，一臺(tái)為粗抽泵，一臺(tái)為分子泵維持泵；

  9. φ400mm口徑高真空氣動(dòng)閥門2套；

（三）工件架以及驅(qū)動(dòng)裝置

  1. 一套公、自轉(zhuǎn)工轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，采用下驅(qū)動(dòng)方式的二維平面行星機(jī)構(gòu)；自轉(zhuǎn)軸20根；

  2. 轉(zhuǎn)速0-8圈/分鐘可控可調(diào)；

  3. 驅(qū)動(dòng)引入采用帶水冷套磁流體密封；

 （四） 真空測(cè)量系統(tǒng)

  1. 采用一臺(tái)數(shù)字式復(fù)合真空計(jì)；

  2.一路高真空測(cè)量，兩路低真空測(cè)量（室體一路，低真空管道一路）

（五）磁控濺射陰極靶

  1. 四對(duì)磁控濺射靶（四只外裝靶，四只內(nèi)裝靶，共八只靶）

  2. 磁控濺射靶靶材尺寸：912mm x120mm（長(zhǎng)x寬）

 （六）加熱系統(tǒng)

  1. 6只加熱器，沿室壁圓周分布，每只功率3kw，加熱總功率18kw;

  2. 金屬鎧裝熱電偶1只，安裝于室體頂部；

  3. zui高烘烤溫度300℃，能實(shí)現(xiàn)溫度自動(dòng)控制；

  4. 加熱器引入采用金屬密封。

 （七）水冷卻系統(tǒng)

   1，真空室冷卻；

2. 八個(gè)靶體冷卻；

 3. 分子泵羅茨泵冷卻；

 4.冷卻水測(cè)溫，并報(bào)警。

（八）供氣系統(tǒng)

 1. 4路進(jìn)氣（Ar,N2,O2,C2H2），1個(gè)混氣罐；

 2. 4只AE質(zhì)量流量計(jì)，4只電磁截止閥，4只手動(dòng)針閥；

 3. 氣路管道采用外徑1/4”不銹鋼管，配均勻布?xì)夤埽?span lang="EN-US">

 （九）預(yù)濺射擋板

 1. 擋板邊緣折邊，增加強(qiáng)度，避免烘烤熱變形；

 2. 驅(qū)動(dòng)引入密封采用磁流體密封。

 （十）濺射及偏壓供電系統(tǒng)

 1. 3套30k濺射電源；

 2. 一套PLS-30K型脈沖偏壓電源

（十一）控制單元

1，  控制系統(tǒng)：上位機(jī)（工控機(jī)）+ 下位機(jī)（PLC）控制形式，工控機(jī)向PLC發(fā)布命令，PLC去控制真空系統(tǒng)，加熱系統(tǒng)，轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)。

2，  真空控制有手動(dòng)和自動(dòng)，自動(dòng)包括四個(gè)過(guò)程：真空、連續(xù)、取件、停機(jī)。

3，  靶控制也有手動(dòng)和自動(dòng)，自動(dòng)主要以時(shí)間和功率來(lái)控制能保存和調(diào)用工藝參數(shù)。

4，  報(bào)警系統(tǒng)有泵、靶斷水報(bào)警，系統(tǒng)氣壓低報(bào)警等，全系統(tǒng)具有防爆、互保護(hù)、泵閥互鎖。

  （十二）設(shè)備動(dòng)力要求

水源：工業(yè)軟水，水壓0.2~0.3MPa，水量`50L/min，進(jìn)水溫度≤25℃

氣源：氣壓0.6MPa；

電源：三相五線制380V,50Hz，波動(dòng)范圍±5%：功率≥60kw，zui大150kw

（十三）占地面積3200長(zhǎng)X 4200寬X 2100高