CMSD2000 納米氧化鉍研磨分散機(jī)
參考價(jià) | ¥ 305780 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱(chēng) 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CMSD2000
- 產(chǎn)地 松江區(qū)陳春公路700號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/12/5 17:24:57
- 訪問(wèn)次數(shù) 661
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實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),高剪切乳化機(jī),勻漿機(jī) 實(shí)驗(yàn)室膠體磨,高剪切乳化機(jī),管線式乳化機(jī)
類(lèi)型 | 圓盤(pán)式研磨機(jī) |
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納米氧化鉍研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
納米氧化鉍 Bi2O3是一種重要的功能材料,主要以A、B、C和R 4 種品型存在. 晶型不同, 應(yīng)用不同[1 ]. 氧化鉍的應(yīng)用非常廣泛, 它不僅是良好的有機(jī)合成催化劑、陶瓷著色劑、塑料阻燃劑、藥用收斂劑、玻璃添加劑、高折光玻璃和核工程玻璃制造以及核反應(yīng)堆的燃料, 而且是電子行業(yè)中一種重要的摻雜粉體材料[2~ 4 ]. 納米氧化鉍除了具有一般粒度(1~ 10 Lm )的氧化鉍粉末的性質(zhì)和用途外, 由于粒度更細(xì), 可用于對(duì)粒度有特殊要求的場(chǎng)合[5 ] , 如無(wú)機(jī)顏料、光學(xué)材料、電子材料、超導(dǎo)材料、特殊功能陶瓷材料、陰極射線管內(nèi)壁涂料等.
1.納米Bi2O3的制備方法
納米氧化鉍的制備方法有很多種, 大致分為固相法和液相法.
固相法
固相法是比較傳統(tǒng)的粉末制備工藝, 用于粗顆粒微細(xì)化. 目前制備納米氧化鉍采用的是固相反應(yīng)法. 該法使2 種或幾種反應(yīng)性固體在室溫或低溫下混合、研磨或再煅燒, 得到所需納米粉體. 在固相反應(yīng)制備納米Bi2O3的過(guò)程中, 將Bi(NO3)3·5H2O和NaOH 混合均勻, 加入適量的分散劑, 充分研磨,再經(jīng)60 ℃恒溫水浴, 洗滌和真空干燥, 即得納米Bi2O3, 顆粒呈多邊形, 平均粒徑約60 nm.另有報(bào)道, 將Bi(NO3)3·5H2O與NaOH 或82羥基喹啉按1∶3 mo爾比混合后, 經(jīng)研磨, 洗滌及適當(dāng)?shù)臒崽幚? 也得到了粒徑分別為10 nm 和50 nm的納米級(jí)氧化鉍. 運(yùn)用該法制備納米Bi2O3, 其制備工藝簡(jiǎn)單、無(wú)污染或污染較少, 產(chǎn)率高, 能耗低, 但也存在著所得粉體易結(jié)團(tuán), 且粒度分布不均、易引入雜質(zhì)等問(wèn)題. 然而, 對(duì)于粒度及純度要求不是很高的應(yīng)用領(lǐng)域, 該法不失為一種經(jīng)濟(jì)有效的工業(yè)化生產(chǎn)方法.
液相法
液相法是目前實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)上應(yīng)用的制備納米粉體的方法. 按照反應(yīng)的不同原理和環(huán)境又可以分為沉淀法、水解法、噴霧法、水熱合成法、微乳液法、溶膠2凝膠法、冷凍干燥法及輻射化學(xué)合成等方法. 下面是目前已成功制備出納米氧化鉍的幾種液相制備方法.
沉淀法
沉淀法是在原料溶液中添加適當(dāng)?shù)某恋韯? 使得原料溶液中的陽(yáng)離子形成各種形式的沉淀物, 然后再經(jīng)過(guò)洗滌、干燥、熱分解等工藝過(guò)程而得到納米粉料的方法. 納米氧化鉍的制備采用的是直接沉淀法, 例如, 采用弱堿液相沉淀2灼燒法, 通過(guò)添加一定比例的分散劑和有機(jī)絡(luò)合劑, 制得了純度高(99. 9%以上) , 粒度小, 均勻性好(平均粒度可達(dá)0. 02Lm ) 的納米氧化鉍[8 ]. 此法的優(yōu)點(diǎn)是, 通過(guò)溶液中的各種化學(xué)反應(yīng)可直接得到化學(xué)成分均一的超微粉體, 操作簡(jiǎn)單, 生產(chǎn)成本低, 產(chǎn)物純度高. 該法也是目前工業(yè)化生產(chǎn)納米粉體的zui主要的應(yīng)用方法.
研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
納米氧化鉍研磨分散機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域: 化學(xué)工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,,炭黑等。 | ![]() | ![]() |
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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CMOD 2000/4 | 50 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMOD 2000/5 | 200 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMOD 2000/10 | 500 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMOD 2000/20 | 1500 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMDO 2000/30 | 3000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMOD2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。