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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機(jī)械設(shè)備>粉碎設(shè)備>研磨機(jī)>CMD2000 化工研磨分散機(jī)

CMD2000 化工研磨分散機(jī)

參考價 198567
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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  上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),依肯通過引進(jìn)德國IKN技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術(shù)同步,同時擁有xx的技術(shù)研究人才和生產(chǎn)能力,為中國及提供多元化的產(chǎn)品及技術(shù)服務(wù)。她已經(jīng)發(fā)展成為中國流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的XX者。
     公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一乳化機(jī)(乳化機(jī),高剪切乳化機(jī),管線式乳化機(jī))二 均質(zhì)機(jī),三 分散機(jī),四 膠體磨,五 乳化泵,六 研磨機(jī),七濕法粉碎機(jī),九成套設(shè)備等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細(xì)度可達(dá)微納米級別。依肯公司作為國內(nèi)的XX供應(yīng)商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術(shù),乳化均質(zhì),粉液混合技術(shù)和合理的配置方案,確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應(yīng)用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細(xì)化工等領(lǐng)域,并成功為x'x工程配套,部分產(chǎn)品返銷國外,取得了顯著的經(jīng)濟(jì)效益和社會效益。

“追求*品質(zhì)”是依肯公司是的宗旨?!俺晒υ醋詣?chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標(biāo)。上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司將以求實、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場。在您在關(guān)注和支持下、她將以不斷發(fā)展壯大,在分散乳化均質(zhì)粉碎設(shè)備制造的廣闊天地中散發(fā)出魅力。




乳化機(jī),膠體磨,分散機(jī),粉液混合機(jī),納米乳化機(jī),納米分散機(jī),納米研磨機(jī),納米粉碎機(jī),高速膠體磨

化工研磨分散機(jī),化工研磨分散設(shè)備,化工研磨機(jī),化工研磨設(shè)備是透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。


化工研磨  如油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,炭黑等。 

石墨烯、  碳納米管 、碳纖維、   鋰電池漿料、大化工,精細(xì)化工產(chǎn)品等


他們主要的問題是這些固體顆粒分散在溶液中,顆粒比較大,不容易粉碎和分散  另外一種情況是他們的顆粒都比較小,但是容易抱團(tuán)。


化工研磨分散機(jī)的研磨分散效果  主要

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點


2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)


線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

和他們分散的效果  

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

 

 

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定
-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60


所以搞得額轉(zhuǎn)速和精密額頭是墳場重要的  


是內(nèi)部結(jié)構(gòu)  

一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將多級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

的參數(shù)和型號  CMD20000,CMSD2000,CMOD2000


研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

18

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

,化工研磨粉碎機(jī),化工研磨機(jī)



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