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SizingMaster-Shadow 陰影法激光粒徑分析儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 北京歐蘭科技發(fā)展有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) SizingMaster-Shadow
  • 產(chǎn)地
  • 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2016/3/7 19:40:05
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 296

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北京歐蘭科技發(fā)展有限公司專(zhuān)業(yè)代理、銷(xiāo)售世界激光及光電產(chǎn)品公司的激光器件,包括皮秒,納秒,飛秒,連續(xù)波激光器,固體激光器,光電子設(shè)備,光學(xué)元件,精密位移定位平臺(tái),壓電陶瓷納米制動(dòng)器,納米位移平臺(tái),CCD相機(jī),激光光譜探測(cè)系統(tǒng),激光參數(shù)測(cè)量設(shè)備,燃燒和流體診斷系統(tǒng),PIV,PLIF,LII, PDI, PDPA, PDA, 粒子成像測(cè)速場(chǎng)儀,激光相位多普勒干涉儀,相位多普勒粒子分析儀, 材料形變應(yīng)力分析,太赫茲實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)和組件,表面形貌測(cè)量,材料應(yīng)力形變分析, 界面特性分析,液滴氣泡分析儀,等儀器和設(shè)備。


主要產(chǎn)品有:高/中/低功率半導(dǎo)體泵浦和閃光燈泵浦的調(diào)Q/鎖模飛秒/皮秒/納秒固體激光器; 準(zhǔn)分子激光器,二氧化碳激光器,通訊激光器;激光能量計(jì),功率計(jì),光束品質(zhì)分析儀; 和頻光譜測(cè)量系統(tǒng),四波混頻光譜測(cè)量系統(tǒng),皮秒時(shí)間分辨光譜測(cè)量系統(tǒng),納秒激光光譜測(cè)量系統(tǒng),橢偏儀,布儒斯特角顯微成像分析儀,表面等離子體共振成像分析儀,波導(dǎo)模分析儀,接觸角測(cè)量?jī)x,液滴氣泡分析儀,激光差分雷達(dá);光學(xué)(激光)診斷系統(tǒng),粒子成像測(cè)速系統(tǒng)(PIV);超快、超高幀頻(增強(qiáng)型)CCD相機(jī),增強(qiáng)型及特種CCD相機(jī);各種非線(xiàn)性晶體,紅外晶體,激光晶體;光學(xué)精密機(jī)械元件;激光器電源及附件。這些產(chǎn)品已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、材料、通訊、制造、能源、航空航天等領(lǐng)域。

我公司的產(chǎn)品技術(shù)*,質(zhì)量可靠,性能穩(wěn)定。所代理的廠(chǎng)家不僅具有*的產(chǎn)品和技術(shù),還具備*的產(chǎn)品研發(fā)能力,可以針對(duì)用戶(hù)的實(shí)際應(yīng)用需求提供Z佳設(shè)計(jì)及配套硬件系統(tǒng)。

我公司始終堅(jiān)持“誠(chéng)信、效率”的經(jīng)營(yíng)原則,竭誠(chéng)為國(guó)內(nèi)廣大用戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)咨詢(xún)以及快捷、優(yōu)質(zhì)、完善的技術(shù)支持服務(wù)。

“您的需求永遠(yuǎn)是我們的動(dòng)力;您的滿(mǎn)意永遠(yuǎn)是我們的目標(biāo)!”

粒子成像測(cè)速儀(PIV),相位激光多普勒干涉儀(PDI),激光多普勒測(cè)速儀(LDV),和頻光譜測(cè)量系統(tǒng)(SFG),相干反斯托克斯拉曼散射(CARS)測(cè)量系統(tǒng),非介入式多光子皮膚層析成像系統(tǒng),靈巧型非介入式多光子光活檢層析成像系統(tǒng),提供化學(xué)指紋信息的在線(xiàn)多光子層析成像系統(tǒng),熒光壽命成像顯微鏡,亞20飛秒激光脈沖靶基因轉(zhuǎn)移系統(tǒng)

儀器簡(jiǎn)介:

應(yīng)用: 
 液體噴霧 (水,燃料,涂料,乳狀液) 
 噴霧破裂 (韌帶,破裂區(qū)域) 
 粉末,固體微粒 (合金, 制陶) 
 氣泡 (熱交換器,工業(yè)加工) 
系統(tǒng)構(gòu)成: 
  SizingMaster Shadow DaVis 軟件 
  CCD 相機(jī) 
 長(zhǎng)距顯微鏡或者放大鏡頭 
 激光,激光二極管或者閃光燈,照明光學(xué)元件 
*標(biāo)準(zhǔn) PIV元件 
系統(tǒng)升級(jí): 
 用于氣體和流體的 
PIV 或者平面LIF系統(tǒng)



技術(shù)參數(shù):

SizingMaster shadow 系統(tǒng)基于背光照明和高放大率成像技術(shù),拍攝分析 
被測(cè)粒子在光學(xué)成像系統(tǒng)焦平面內(nèi)的陰影圖像。



主要特點(diǎn):

信息: 
粒子尺寸(d) 
粒子位置 (x, y, z) 
粒子形狀(偏心度) 
統(tǒng)計(jì)表,柱狀圖 (D21, D32, Dv50) 
速度 (Vx,Vy) 
密度 
質(zhì)量流



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