插層石墨研磨分散機是  研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

插層石墨

石墨是一種典型的二維層狀無機高分子材料，其層與層之間僅依靠的范德華力結(jié)合，碳層之間的結(jié)合力弱，間距較大，導(dǎo)致多種化學(xué)物質(zhì)（原子、分子、離子和離子團(tuán)）可以插入層間空隙，形成石墨插層化合物（Graphite Intercalation Compound, GICs）。

石墨插層化合物（GICs）是一種利用物理或化學(xué)的方法使非碳質(zhì)反應(yīng)物插入石墨層間，與碳素的六角網(wǎng)絡(luò)平面結(jié)合的同時又保持了石墨層狀結(jié)構(gòu)的晶體化合物。石墨插層化合物不僅保留了石墨原有的理化性質(zhì)，而且由于插入物質(zhì)與碳層之間的相互作用而呈現(xiàn)出石墨與插層物質(zhì)均不具備的一些新的特性如高電導(dǎo)性、同位素分離效應(yīng)、催化效應(yīng)、密封效應(yīng)等，特別是某些石墨插層材料還出現(xiàn)了超導(dǎo)性能，因此受到物理學(xué)家、化學(xué)學(xué)家和材料學(xué)家的重視，隨之各個國家都投入了大量的人力和物力進(jìn)行研究。在1999年時，*就已成功合成出了400多種石墨層間化合物及其衍生物到十二年后的今天，石墨插層化合物的種類更為豐富，應(yīng)用也更為廣泛，它作為導(dǎo)電材料、電池材料、有機化學(xué)反應(yīng)的試劑和催化劑及密封材料和儲氫材料等都正在或者將會起到很大的作用

插層石墨研磨分散機

有可能你會問  一般國內(nèi)做碳管或者石墨烯會用砂磨機或者球磨機   超聲波分散機等等？  球磨機或者砂磨機他們偏重研磨炸   會破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu) 。 我們的研磨分散機偏重  分散剝離  。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn)，只是作為一種輔助分散。

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
  

    納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國XX的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（zui高可達(dá)14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

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