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化工儀器網(wǎng)>產品展廳>化工機械設備>真空設備>真空應用設備>W-JH4 維意真空高真空鍵合機支持定制

W-JH4 維意真空高真空鍵合機支持定制

參考價 200000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


公司名稱(現(xiàn)用名):北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區(qū)域:北京、天津、河北


      北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創(chuàng)立于2013年,位于中國·首都北京密云經濟技術開發(fā)區(qū),主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業(yè)經驗,同時還與北京工業(yè)大學聯(lián)合研發(fā)等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng),與北京交通大學聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng),滿足高校、研究所的教學、科研使用,同時減少相關進口設備的*,并力爭創(chuàng)造外匯,打出中國創(chuàng)造的品牌!  


      我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、部分*單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!


      您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標!
      技術創(chuàng)新、業(yè)務專業(yè)、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!


      我們熱誠歡迎國內外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成真空系統(tǒng)產品、等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)和原子層沉積系統(tǒng)供應商。


ALD設備,PECVD設備

應用領域 環(huán)保,能源,電子/電池 極限真空度 1Pa
鍵和壓力 0~3.5KN 壓頭尺寸 200*200
使用溫度 300℃

晶圓Bonding機技術方案

一、設備組成概述

設備由加壓力系統(tǒng),壓力控制系統(tǒng),加熱系統(tǒng),真空系統(tǒng),氣路系統(tǒng),電氣控制系統(tǒng),

二、設備技術要求

1、設備極限真空度1Pa

2、鍵合平臺尺寸200mm×200mm(長×寬);平臺平行度:0.05mm;

3可鍵合晶圓厚度,0~140mm;

可鍵合芯片尺寸150mm×150mm(長×寬)

4、壓力范圍:0~3.5KN;鍵合壓力在量程內也任意可編程設置與控制;

? 壓力顯示精度:±0.1KN

5、真空系統(tǒng)1

真空腔、真空機械油泵,手動角閥,真空計,微正壓泄壓閥,進氣口、進氣閥、及進氣浮子流量計。

6、控溫范圍室溫~300℃;上下板溫差:3℃;

溫度可以靈活設置和編程,溫控精度:±1%100℃以下±1℃);

均勻升溫速率:4/min100℃以下);3/min100~200℃);2/min200℃以上);快速升溫速率:10/min;支持溫度編程段數(shù):10 段控溫;

上下壓盤部分采用高溫合金制造,上下壓盤同時加熱控溫,能在600度高溫下加壓不變形,保證加壓基板的平整度。

7、電氣控制系統(tǒng)1套。

8、電源功率要求:220V,3.5KW

三、設備主要配置方案

1、設備采用機械泵(型號:TRP-24),以實現(xiàn)極限真空度:1Pa。

2、鍵合平臺方案:上壓頭采用球頭軸,保證兩壓頭之間的平行度,

3、加壓力系統(tǒng)1套:

采用伺服電動缸(型號:外徑75);粘合壓力:0750Kg可控;壓力可以

斜率上升(線 性)。上升速率:0.55Kg/s。從而達到壓力范圍:0~3.5KN;

伺服電機加壓時,配合壓力傳感器進行測量,PLC,實時在線監(jiān)測,保證壓

力精度的準確性。

鍵合壓力在量程內也任意可編程設置與控制,壓力顯示精度:±0.1KN。   

4、控制系統(tǒng)1套:

 plc和控制模塊對伺服電動缸的加壓系統(tǒng)和樣品臺加熱系統(tǒng)進行控制,可隨意設置和更改參數(shù)。

5、真空系統(tǒng)1

真空機械油泵,手動角閥,真空計,微正壓泄壓閥,進氣口、進氣閥、及進氣浮子流量計。

6、加熱系統(tǒng)1套:

采用鎧裝加熱絲加熱形式,表面功率大,升溫速度快,加熱均勻;壓盤部分

采用高溫合金制造。K型熱電偶進行溫度反饋,固態(tài)繼電器進行PID溫度調

節(jié)。鎧裝電阻絲采用鋁合金壓板固定,不需要隔熱裝置。

常用溫度:室溫 ~ 300 ℃ ± 1℃ 。要求斜率上升,可設定上升曲線,10

段控溫 。常用溫度上升速率:均勻升溫速率:4/min100℃以下);3

/min100~200℃);2/min200℃以上);快速升溫速率:10/min,

要求加熱部件要均勻,上下板溫差:3℃;

7、電氣控制系統(tǒng)1套。


設備名稱

產地

數(shù)量

1.

真空獲得與測量部分



1.2

真空機械泵(TRP-24)

合資

1

1.3

GYC-JQ40KF高真空電磁壓差式帶充氣閥

上海西馬特

1

1.4

CF-16高真空手動充放氣閥

淺藍納米

1

15

真空計(大氣壓~0.1Pa

成都睿寶 

1

1.6

不銹鋼液壓波紋管路組件

中外合資弗萊希波

1  

1.7

數(shù)顯壓力表

合資

1

1.8

泄壓閥

淺藍納米

1

1.9

真空抽氣閥

淺藍納米

1

2.

真空腔體部分



2.1

真空室殼體(真空專用不銹鋼)

淺藍納米

1

2.2

壓力控制系統(tǒng)(樣品上壓頭)

淺藍納米

1

2.3

加熱系統(tǒng)

淺藍納米

1

2.4

樣品下壓頭

淺藍納米

1

2.5

伺服電動缸

上海

1

2.5

100觀察窗

淺藍納米

1

2.6

CF-35四芯陶封組件

淺藍納米

1

2.7

壓力傳感器

上海

1

3.

電器部分


1

3.1

總控電源

淺藍納米

1

3.2

樣品加熱控制電源

淺藍納米

2

3.3

Plc控制系統(tǒng)

淺藍納米

1

3.4

總控觸屏

中國臺灣

1

4

輔助件及配件



4.1

設備主機架

淺藍納米

1

4.2

氟橡膠圈、無氧銅墊及各種標準件、備件

淺藍納米

全套

工作說明:1.將下基片底放在下壓頭上,將上基片放在上基片支撐機構上。(此時兩基片中間有間隙,為了抽下基片氣泡)

          2.抽真空除氣泡完畢后,上基片支撐機構的幾個支撐板會于上基片拖開,上基片下落到下基片上。

          3.利用基片對準整合機構將上下基片整合對準。

          4.設定壓合工藝,利用上下壓頭對兩基片進行壓合。

維意真空高真空鍵合機支持定制

 維意真空高真空鍵合機支持定制




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