實驗室膠體磨,納米實驗室膠體磨,實驗室進口膠體磨,德國實驗室膠體磨,膠體磨 實驗室膠體磨, 中試型實驗室膠體磨 , IKN實驗室膠體磨 , 140000轉(zhuǎn)高速實驗室膠體磨
實驗室膠體磨,中試型實驗室膠體磨,IKN實驗室膠體磨,140000轉(zhuǎn)高速實驗室膠體磨,小型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉的效果。
實驗室的目的是為了便于工業(yè)放大 將那些在實驗室水平能夠*工作的反應擴增到工業(yè)生產(chǎn)的水平絕不是一個簡單的、線性化的過程。“這里沒有任何東西是依據(jù)線性比例擴增的。你永遠不能使一個5g產(chǎn)量的反應與50g產(chǎn)量的條件下以*相同的方式工作,而從50g到5kg的發(fā)展過程也必須經(jīng)歷相似的道路,”專門從事化學藥物研究和開發(fā)的Paul Vogt博士談道,“新的問題總是從你想象不到的地方不斷出現(xiàn)。沒有任何一位化工專家能夠輕而易舉的擴大反應規(guī)模,總是有困難在前方等待他去戰(zhàn)勝。”
實驗室膠體磨,中試型實驗室膠體磨,IKN實驗室膠體磨*模擬工業(yè)化zui小型 模擬工業(yè)管線式生產(chǎn)流程而設計,給工業(yè)化提供可靠的數(shù)據(jù)論證。LP2000/4和PP2000/4中試型分散乳化機與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機型配置基本相同,各種工作頭的種類及相應線速度亦相同,中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整,從而將機器型號升級到工業(yè)化的過程中的風險降到zui低
實驗室膠體磨,納米實驗室膠體磨,實驗室進口膠體磨,德國實驗室膠體磨,膠體磨 實驗室膠體磨,中試型實驗室膠體磨,IKN實驗室膠體磨,140000轉(zhuǎn)高速實驗室膠體磨
實驗室膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上,研磨效果非常好,zui高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同) ,公司有樣機供客戶實驗
實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
實驗室中試型膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,實驗室中試型膠體磨用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。
CM2000/4實驗室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
公司另外一項*的創(chuàng)新,就是錐體磨CMO2000系列,它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新,CMO2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同) ,公司有樣機供客戶實驗
該廠商的其他產(chǎn)品
- CMSD2000 德國銀圭涂料分散機,銀圭納米陶瓷涂料三級分散機,銀圭納米陶瓷涂料連續(xù)式分散機
- CMSD2000 原位聚合聚苯硫醚石墨烯納米復合纖維研磨分散機
- CMOD2000 納米氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機,德國納米氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨分散機
- CMXD2000 進口石墨烯DMF分散液超高速分散機,石墨烯DMF漿料高剪切研磨分散設備
- CMSD2000 德國剪切力66M/S超高速濕法粉碎機,進口剪切力44M/S超高剪切濕法粉碎設備廠家
- ERX2000 德國剪切力66M/S超高速納米均質(zhì)機,進口剪切力44M/S超高剪切納米均質(zhì)設備廠家
- ERS2000 德國剪切力66M/S超高速納米乳化機,進口剪切力44M/S超高剪切乳化設備廠家
- CMSD2000 德國剪切力66M/S超高速納米分散機,進口剪切力44M/S超高剪切分散設備廠家