實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)，研發(fā)小型研磨分散機(jī)，實(shí)驗(yàn)室小型超高速研磨分散機(jī),小型研磨分散機(jī)，實(shí)驗(yàn)室超高速研磨分散機(jī)，小型超高速研磨分散機(jī)

LP 2000是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室小試和中試的設(shè)備，集研磨、分散、均質(zhì)、乳化于一體，在多個(gè)領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用。如化工行業(yè)：白炭黑、環(huán)氧樹(shù)脂等超細(xì)研磨分散機(jī)；食品行業(yè)：植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果。

LP 2000實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)，電機(jī)功率：2.2kw，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，處理在0-200L，設(shè)備體積較小，可直接放置實(shí)驗(yàn)臺(tái)上操作。專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過(guò)程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到zui低。

LP 2000實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備，先研磨后分散，效率高效果好。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

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實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)由1-3個(gè)工作腔組成，在馬達(dá)的高速驅(qū)動(dòng)下，物料在轉(zhuǎn)子與定子之間的狹窄間隙中高速運(yùn)動(dòng)，形成紊流，物料受到更強(qiáng)液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達(dá)到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質(zhì)和工作腔的數(shù)量以及控制物料在工作腔中停留的時(shí)間決定了粒徑分布范圍及均化、細(xì)化的效果和產(chǎn)量的大小。

 設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)

電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)

電源選擇： 380V/50HZ、440V/50HZ

材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti

表面處理：拋光、耐磨處理

進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小

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