瑞澤氣站配置5-1500Nm3/h氬氣純化裝置

裝置說明：

原料氬為工業(yè)普氬時，其純化工藝為，采用非蒸散型吸氣劑為凈化劑，在一定溫度下，吸氣劑可將普氬氣中的O2、N2、H2、CO、CO2、CH4等雜質(zhì)形成穩(wěn)定的化合物或固溶體，從而達到對氬氣精制的目的。本裝置凈化器采用特殊結(jié)構(gòu)，具有接觸面積大、阻力小、凈化效率高、熱功率損耗小等優(yōu)點。本裝置吸附干燥器對氬氣進行深度脫水，可與區(qū)熔硅晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產(chǎn)技術領域。

一、瑞澤氣站配置5-1500Nm3/h氬氣純化裝置技術參數(shù)：

1、處理氣量：            5~500Nm³/h

2、純化后氬氣純度        99.9995%

   純氬技術要求應符合下表的規(guī)定符合：GB/T4842-2006

裝置特點：  

1.  凈化則采用了*的凈化材料。其特點有吸附深度好，吸收雜質(zhì)氣體量大的特點，zui高純度可達99.9999%以上。
2.  并在zui后安裝了小于0.1μ的金屬過濾器。保證了氣體粉末的要求。

3.  本裝置的閥門采用國內(nèi)外專業(yè)閥門公司的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，保證了產(chǎn)品的高純度無滲透及安全可靠性。
4.  設備中全部容器、管道、閥門均為不銹鋼材質(zhì)。
5.  設備中全部選用我公司跟蹤*水平而研制的凈化材料，具有凈化深度好、安全可靠、可反復再生的特點。
6.  設備中的主要控制儀表全部采用國內(nèi)外*產(chǎn)品。
7.  接頭采用*的高純接頭,保證了無滲透。
8.  外觀設計采用流行顏色及形式,使產(chǎn)品更美觀。
9.  設備可以在線加裝微氧分析儀和微量水分析儀使凈化后氣體得到監(jiān)測。避免了因設備問題的損失。
10. 本設備具有體積小,操作簡便,能耗小,安全可靠的特點。無須頻繁再生及再生無須加氫的特點。
11. 本設備在金屬保護行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫(yī)學等領域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學儀器等的配套使用設備，得到了廣泛的應用。
12. 另外，我公司還可以根據(jù)用戶的不同需求，定制5 m3/h～500 m3/h的大凈化流量高純氣體凈化器。詳情請來電垂詢，歡迎訂購。
13. 可根據(jù)用戶的要求對設備進行再設計，如加裝水分儀和全自動設備（價格另議）           設備加裝微氧分析儀使凈化后氣體得到監(jiān)測。避免了因設備問題的損失。本設備具有體積小，操作簡便，能耗小，安全可靠的特點。無需頻繁再生及再生無須加氫的特點。

• ：本公司也可根據(jù)客戶要求，直接做高壓的，這樣就可省掉使用模壓機增壓工序。

高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了提高硅晶體的質(zhì)量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。 氬氣純化裝置是針對需要使用超高純度氬氣的客戶而設計的。

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