“光譜儀配套氬氣凈化機”“全自動氬氣凈化機”“半自動氬氣凈化機”“氮氣純化裝置”“氫氣純化設備”“氬氣純化裝置”“氧氣純化裝置”“二氧化碳氬氣配比裝置”“氫氮配比裝置”
斯派克配套瑞澤全自動氬氣凈化機
斯派克配套瑞澤全自動氬氣凈化機凈化原理
該凈化機利用催化劑促使氬氣中的微量氧氣與碳反應生成二氧化碳,從而除去氬氣中的雜質氧氣,再利用分子篩吸附脫除氬氣中的H2O、CO2等雜質,再利用合金吸附劑吸附脫除氬氣中剩余的的N2等惰性雜質,即可得到高純氬氣。
工作壓力:0.4-0.8MPa。
處理氣量:4NM3/h。
設備尺寸:600mm×700mm×1600mm
設備重量:150kg
設備特點
1) 催化劑活性高,凈化后的氣體純度高。
2) 雙式結構,一組工作另一組再生備用,故能*連續(xù)供氣。
3) 采用本機純氣吹掃的再生流程,再生不用氫,故不需機房,安全性好。
4) CZA-4C對再生具有自動功能,操作比老產(chǎn)品更簡單,并且不易出錯,性能也更穩(wěn)定可靠。
5) CZA-4C克服了老產(chǎn)品偶爾會產(chǎn)生“假斷偶保護”使再生不能進行的缺點。
6) 系統(tǒng)采用零泄露的波紋管閥門,設備的可靠性更高。
7) 采用分級凈化的原理,預先除去氬氣中的活性雜質,如O2、H2O、CO2等,再深度凈化,大大延長了設備的使用壽命。
8) 增加了除氮功能,氬氣的純度更高。
可與美國熱電,OBFL、布魯克;瑞士ARL,牛津光譜、日本島津,北京納克,英國阿朗,北京瑞利等多家光譜儀公司生產(chǎn)的直讀光譜儀、熒光光譜儀、輝光光譜儀配套使用,以增強分析數(shù)據(jù)的可靠性和穩(wěn)定性,同時可以較大的節(jié)省購買高純氬氣的成本。該型機器尤其適用于與帶氮通道的直讀光譜儀配套使用,同時該凈化機也可用作高純材料(如單晶硅、多晶硅、高純金屬)生產(chǎn)的保護氣氛。
售后服務
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