真空燒結(jié)爐配套用瑞澤氬氣純化裝置

一、真空燒結(jié)爐配套用瑞澤氬氣純化裝置概述 

    氬氣作為真空爐的冷卻、保護氣，為了提高產(chǎn)品的質(zhì)量，通過使用本公司生產(chǎn)的氬氣純化裝置，純化后氬氣的純度大于99.9995%；當(dāng)氬氣中雜質(zhì)氧含量小于1ppm時，水分也小于2.5ppm時，制作出的產(chǎn)品其碳化合物含量就小于1ppm，這樣就大大提高了產(chǎn)品質(zhì)量，贏得客戶的滿意和市場的需求。

一般液氬純度是符合99.995%要求的。由于汽化后未經(jīng)過純化處理，它的氧含量一般在3ppm~5ppm。有時氣體供應(yīng)商提供的氬氣超過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質(zhì)量，所以往往給生產(chǎn)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。有了本公司提供的氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質(zhì)量如何，只要經(jīng)過純化裝置的處理后，純度始終是恒定的。這樣穩(wěn)定的氬氣質(zhì)量有助于提高產(chǎn)品質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率。
二、本公司生產(chǎn)的真空爐配套氬氣純化裝置對原料氬氣要求      
      一般瓶裝純氬，液氬、控制較好的管道氬氣。
      雜質(zhì)要求： O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。
  輸出純氣
     純度：99.9998%
     雜質(zhì)含量：
       O2≤0.5PPm，
       H2O≤1PPm(即露點≤－76℃)，
       CO+CO2≤0.1PPm，
       S、P的氧化物≤0.1PPm。
       塵埃粒子數(shù)（≥0.3μm）3-5個／升。
       工作壓力：0.4-1.5MPa。
       處理氣量：4NM³/h（其余流量需要定制）。
三、設(shè)備特點
1)   催化劑活性高，凈化后的氣體純度高。
2)   雙式結(jié)構(gòu)，一組工作另一組再生備用，故能*連續(xù)供氣。
3)   采用本機純氣吹掃的再生流程，再生不用氫，故不需機房，安全性好。材料（如高溫石墨化爐、碳化爐、真空燒結(jié)爐以及各種碳素材料的碳化及石墨化加熱設(shè)備、單晶硅、多晶硅、高純金屬、貴金屬）生產(chǎn)的保護氣氛。

4)   設(shè)備操作方式分有半自動操作和全自動操作方式，更有效的滿足用戶選擇性。