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JGP-800型磁控濺射鍍膜設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準
產(chǎn)品標簽

膜設(shè)備

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真空應(yīng)用設(shè)備、真空獲得設(shè)備、太陽能光伏裝備、工業(yè)化產(chǎn)品

產(chǎn)地類別 國產(chǎn)

設(shè)備用途
該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、LED和光伏等行業(yè),主要用于各種金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料的薄膜制備,可滿足科研兼小批量生產(chǎn)需要。
設(shè)備組成
JGP-800型磁控濺射鍍膜設(shè)備該系統(tǒng)為單腔室結(jié)構(gòu),主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量、水冷卻及報警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。
JGP-800型磁控濺射鍍膜設(shè)備系統(tǒng)由工控機和PLC實現(xiàn)控制,有自動和手動控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過程全部在觸摸屏上實現(xiàn);提供真空系統(tǒng)、濺射工藝設(shè)置、充放氣系統(tǒng)等人機操作界面;在工控機上可通過配方設(shè)置參數(shù),實現(xiàn)對程序工藝過程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置。



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