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LOW-E磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線

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磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線

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上海福宜真空設(shè)備有限公司,是致力于真空鍍膜設(shè)備、復(fù)雜鍍膜工藝和真空設(shè)備核心部件的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及技術(shù)服務(wù)的*。 公司創(chuàng)始人和核心技術(shù)團隊,致力于復(fù)雜鍍膜工藝的開發(fā),鍍膜工藝和設(shè)備集成的理論和實際相結(jié)合是公司發(fā)展的主要特色。相對于整機設(shè)備和鍍膜工藝技術(shù),國內(nèi)核心部件的研究和制備技術(shù)水平與國外差距更大。公司投入超過1000萬元

工模具硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備、磁控濺射復(fù)合多弧離子鍍鍍膜設(shè)備、連續(xù)線式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議

LOW-E磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線,主要用于單、雙銀低輻射玻璃鍍膜,以及可鋼化單、雙銀低輻射玻璃鍍膜。Low-E玻璃用于節(jié)能建筑的幕墻及門窗玻璃,能夠隔熱節(jié)能,防治光污染。LOW-E磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線采用真空磁控濺射鍍膜的方法在玻璃表面鍍上多層金屬或其它化合物組成的膜系產(chǎn)品,所鍍制的玻璃對可見光有較高的透射率,對紅外線(尤其是中遠紅外)有很高的反射率,具有良好的隔熱性能。

1.極限真空:7x10-4Pa.                    
2.生產(chǎn)周期40~120秒/架
3.基本架尺寸:859*1500mm (可以根據(jù)要求定做) 
4.膜層均勻性:±2%
5.膜層穩(wěn)定性:達到標(biāo)準(zhǔn)

主要用于單、雙銀低輻射玻璃鍍膜,以及可鋼化單、雙銀低輻射玻璃鍍膜。



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