JCP350 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京泰科諾科技有限公司
- 品牌
- 型號 JCP350
- 產(chǎn)地 北京昌平
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2019/8/8 9:53:08
- 訪問次數(shù) 404
產(chǎn)品標(biāo)簽
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
1、產(chǎn)品特點/用途:
? 磁控濺射鍍膜設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用;占地面積小,價格便宜,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
? 磁控濺射鍍膜設(shè)備可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等;
? 鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等;
? 單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。
2、技術(shù)參數(shù)
型號 | JCP350 |
真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式上開蓋結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),氣動提開式 |
真空腔室尺寸 | Φ350×H350mm |
加熱溫度 | 室溫~500℃ |
濺射方式 | 向上濺射 |
旋轉(zhuǎn)基片臺 | Φ120mm |
膜厚不均勻性 | Φ75mm范圍內(nèi)≤±5.0% |
濺射靶/蒸發(fā)電極 | Φ2英寸磁控靶2支,兼容DC/RF濺射 |
工藝氣體 | 2-3路氣體流量控制 |
控制方式 | PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動控制系統(tǒng) |
占地面積 | (主機(jī))L1600×W800×H1920mm |
總功率 | ≥8KW |