QCM-I 石英晶體微天平應(yīng)用

• 電活性聚合物
• Li+ 嵌入
• 腐蝕研究
• 電沉積
• 自組裝單層
• 抗原-抗體相互作用
• 表面活性劑吸附
• 蛋白質(zhì)吸附
• 離子和溶劑運(yùn)輸

QCM-I 石英晶體微天平圍繞兩個(gè)諧振頻率快速掃描頻率窗口（這些諧振頻率的解釋參見 eQCM 基礎(chǔ)知識(shí)應(yīng)用注釋）。通過兩個(gè)諧振頻率掃描的優(yōu)點(diǎn)是您不再需要為了維持振蕩而取消寄生電容。此外，每次獲得數(shù)據(jù)點(diǎn)時(shí)都會(huì)顯示相關(guān)阻抗譜，讓您能夠更深入地了解電極上氣泡的形成或不正確的池設(shè)置。具有兩個(gè)諧振頻率使您能夠進(jìn)行基礎(chǔ)的耗散監(jiān)測。當(dāng) ?_s 和 ?_p 回應(yīng)類似時(shí)，膜已經(jīng)較硬，而當(dāng) ?_s 和 ?_p 回應(yīng)不同時(shí)，膜還沒有變硬。

您可以利用諧振器調(diào)整晶體的驅(qū)動(dòng)振幅。當(dāng)在離子液體 (IL) 或粘稠溶液中工作，阻尼特別高時(shí)，這非常重要。 能夠手動(dòng)提高高負(fù)載晶體的驅(qū)動(dòng)振幅比直接耗散或時(shí)間分辨技術(shù)更具有顯著優(yōu)勢。

數(shù)據(jù)分析在我們靈活和可定制的 Echem Analyst™ 中完成。我們?yōu)槟峁└鞣N繪圖選項(xiàng)，您能夠以自己需要的方式顯示數(shù)據(jù)。您可以繪制直接質(zhì)量變化與時(shí)間、質(zhì)量與電荷、質(zhì)量與電位或基本形式耗散與時(shí)間的圖形。