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VTC-300USS 科晶超聲旋轉(zhuǎn)噴涂?jī)x

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 森瑪特儀器(北京)有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) VTC-300USS
  • 產(chǎn)地 合肥
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2025/2/17 9:52:07
  • 訪問(wèn)次數(shù) 1485

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森瑪特儀器(北京)有限公司由一群有著共同愿景的實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備*人員創(chuàng)建,秉承“共享共贏”的經(jīng)營(yíng)理念。旨在成為中國(guó)實(shí)驗(yàn)室儀器和設(shè)備行業(yè)專業(yè)技術(shù)和服務(wù)的提供者。森瑪特總部設(shè)在北京,我們?cè)?國(guó)建立了龐大的銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò),為*國(guó)客戶提供方便、快捷的服務(wù)。公司內(nèi)部從創(chuàng)建之初就開(kāi)始建立和使用ERP和CRM管理系統(tǒng),加強(qiáng)公司內(nèi)部流程管理和外部服務(wù)管理。森瑪特全體員工,從銷(xiāo)售團(tuán)隊(duì)、運(yùn)營(yíng)團(tuán)隊(duì)、市場(chǎng)團(tuán)隊(duì)、產(chǎn)品支持到售后服務(wù)團(tuán)隊(duì),都受過(guò)系統(tǒng)的高等教育、嚴(yán)格的產(chǎn)品技術(shù)和優(yōu)良的服務(wù)意識(shí)的培訓(xùn)。我們能夠?yàn)榭蛻籼峁﹥?yōu)質(zhì)的實(shí)驗(yàn)室全套解決方案。我們?yōu)榭蛻籼峁┖脙x器,服務(wù)中國(guó)客戶,同時(shí)為客戶提供電子商務(wù)服務(wù)和網(wǎng)上技術(shù)咨詢服務(wù)。


儀器儀表,玻璃制器,橡膠制品,實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,機(jī)械設(shè)備,電子產(chǎn)品,通訊設(shè)備,計(jì)算機(jī)軟硬件及輔助設(shè)備,技術(shù)服務(wù)、進(jìn)出口等等

產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,電氣

科晶超聲旋轉(zhuǎn)噴涂?jī)x

型號(hào):VTC-300USS

產(chǎn)品概述:

VTC-300USS是一款經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的超聲旋轉(zhuǎn)噴涂?jī)x,此款儀器是12英寸的真空旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)和超聲噴頭的結(jié)合體。噴頭可以連接空氣壓縮機(jī),采用氣壓噴射,以此與超聲霧化相結(jié)合,使基片上薄膜更加均勻。

旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)結(jié)構(gòu):

  • 采用鑄鋁結(jié)構(gòu),使旋轉(zhuǎn)更加穩(wěn)定
  • 真空吸盤(pán)可承載基片大直徑為12英寸
  • 大轉(zhuǎn)速:3000RPM(針對(duì)12英寸基片)5000RPM(針對(duì)8英寸基片)
  • 樣品臺(tái)上端有防護(hù)罩,以防止樣品飛出
  • 一個(gè)可搖擺機(jī)械手臂(可調(diào)節(jié)搖擺速度)安裝在旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)上,此搖擺手臂上安裝有超聲噴頭
  • 儀器中配有一AP-1400V雙極旋片無(wú)油真空泵

科晶超聲旋轉(zhuǎn)噴涂?jī)x

型號(hào):VTC-300USS

超聲噴霧

  • 一超聲霧化儀,兩個(gè)超聲噴頭(可采用壓縮空氣助噴)
  • 獨(dú)立控制的兩通道注射泵(被注射液體大可加熱到60℃),此注射泵將于超聲噴霧頭相連接,將液體注入到超聲霧化頭中
  • 可選項(xiàng):可選帶有熱電偶的鹵素?zé)艉蜏囟瓤刂破鳎瑢?duì)所涂基片進(jìn)行加熱,高溫度可加熱到90℃;大功率1000W

儀器運(yùn)行需求

  • 電源: AC208-240V,3000W
  • 氣體:1MPa的壓縮空氣或惰性氣體

凈重72kg

質(zhì)量認(rèn)證:CE認(rèn)證

應(yīng)用注釋:

  • 旋轉(zhuǎn)噴涂?jī)x必須放到通風(fēng)柜中使用,防止液體揮發(fā)到實(shí)驗(yàn)室中,(可在本公司購(gòu)買(mǎi)通風(fēng)柜)
  • 為了獲得佳的涂覆效果,建議在涂覆之前對(duì)基片進(jìn)行等離子清洗,采用等離子清洗后不僅可以清潔基片表面,而且可大大減小基片的表面張力

 



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