廠家正式*代理商：岱美有限公司

      岱美有限公司與Filmetrics從03年開始的合作關系，單是國內(nèi)16年間已賣出超過600臺不同型號儀器，在國內(nèi)有多個服務處均有工程師，保證能為客戶提供及時的服務。

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Filmetrics硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量功能強大，測量厚度從1nm到10mm

 薄膜特性表征工具/光學參數(shù)測量/反射率測量/厚度測量/透射率測量，應用于半導體材料厚度測量、非金屬材料厚度測量、光刻膠、光學掩膜、介電薄膜、晶圓表面涂層厚度測量、圓晶薄膜厚度測量、硅片表面涂層材料厚度測量，研究透光性材料的工具。

     硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量儀 F20都能測量薄膜厚度、光學常數(shù)，還是想要知道材料的反射率和透過率。僅需花費幾分鐘完成安裝，通過USB連接電腦，設備就可以在數(shù)秒內(nèi)得到測量結果?；谀衬K化設計的特點，硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics  F20適用于各種應用：

  測量厚度、折射率、反射率和穿透率：

-     單層膜或多層膜疊加

-     單一膜層

-     液態(tài)膜或空氣層

  不同條件下的測量，包括：

-     在平面或彎曲表面

-     光斑**可達20微米

-     桌面式、XY坐標自動化膜厚測量，或在線配置

以硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度膜厚儀—Filmetrics  F20為例

型號參數(shù)

Filmetrics公司：

    硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics利用反射干涉的原理進行無損測量，可測量薄膜厚度及光學常數(shù)。測量精度達到埃級的分辯率，測量迅速，操作簡單，界面友好，是目前市場上**性價比的薄膜厚度測量設備。設備光譜測量范圍從近紅外到紫外線，波長范圍從200nm到1700nm可選。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半導體膜層都可以測量。其可測量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之間，測量精度高達1 埃，測量穩(wěn)定性高達 0.7 埃，測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選?？蓱妙I域包括：生物醫(yī)學（Biomedical）, 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 晶圓涂層、金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導體材料(Semiconductors)涂層測厚 , 太陽光伏(Solar photovoltaics),涂層測厚、 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。

應用：

通過Filmetrics膜厚測量儀新反射式光譜測量技術,多達3-4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應用廣泛，例如：

膜層實例：

幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括：

SiO2（二氧化硅）           SiNx（氮化硅）                    DLC（類金剛石碳）

Photoresist（光刻膠）     Polyer Layers（高分子聚合物層）      Polymide（聚酰亞胺）

Polysilicon（多晶硅）      Amorphous Silicon（非晶硅）

基底實例：

對于厚度測量，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數(shù)測量，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要進行處理使之不能反射。

包括：

Silicon（硅）         Glass（玻璃）               Aluminum（鋁）

Gas（砷化鎵）        Steel（鋼）                 Polycarbonate（聚碳酸脂）

Polymer Films（高分子聚合物膜）

產(chǎn)品應用，在可測樣品基底上有了飛躍：

●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量，即使是藥片，木材或紙張等粗糙的非透明基底。

●玻璃或塑料的板材、管道和容器。

●光學鏡頭和眼科鏡片。

優(yōu)勢：

*     提供在線診斷

*     配送獨立的軟件包

*     精通的歷史功能即程序數(shù)據(jù)可存儲、**及策劃結果

*     免費軟件升級

產(chǎn)品工作原理：

極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:

一、單點測量系統(tǒng)（從 1nm 到 13mm 單層及多層厚度測量）

F20

*銷量好的薄膜測量系統(tǒng)，有各種不同附件和波長(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))覆蓋范圍，為任意攜帶型，可以實現(xiàn)反射率、膜厚、n、k值測量。

F3-sX

在沉積過程中可實時監(jiān)測半導體與介電層薄膜厚度到3毫米, 例如硅片

F10-ARc

可測量鏡片和其他曲面的反射率，用于涂層厚度測量

F10-HC

測量硬涂層和防霧層厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂層在汽車等行業(yè)應用普通

F3-CS

提供微小視野及微小樣品測量，USB連接電腦即可使用，攜帶方便

F10-AR

測量眼科鏡頭和其他彎曲表面的反射率。還可以提供測量硬涂層厚度和透射率的可選件

F10-RT

可同時測量反射率和透射率，也可選配測量膜層厚度和折射率。普遍應用于真空涂層領域

在膜厚儀—FilmetricsF20實現(xiàn)反射率跟穿透率的同時測量，特殊光源設計特別適用于透明基底樣品的測量。

二、F40 系列- 基于微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量

膜厚儀—FilmetricsF40

可以固定到您的顯微鏡上來測量小至 1um 光斑點的厚度和折射率

這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。

三、F50/F60系列- 表面的自動測繪

F50

為我們的膜厚儀—FilmetricsF20系列產(chǎn)品增添自動測繪能力，以每秒鐘 2 個點的快速測繪厚度和折射率

這型號配備全自動XY工作臺，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。

F54

能以每秒測量兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度，樣品直徑可達450毫米

F60-t

滿足生產(chǎn)環(huán)境的臺式測繪系統(tǒng)，包括自動基準確定、凹槽定位、全封閉測量平臺以及其它裝置

四、F30 系列- 在線厚度監(jiān)控儀器

F30

檢測金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、陰極濺鍍和其他沉積工藝中監(jiān)控反射率、厚度和沉積率

這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口?？蓪崟r監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭，同時測量三個樣品，具紫外線區(qū)或標準波長可供選擇。

F32

實時監(jiān)控薄膜頂部和底部的反射率和沉積速率