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TM-03 日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機

參考價4560-500000/件
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 秋山科技(東莞)有限公司
  • 品牌其他品牌
  • 型號TM-03
  • 所在地東莞市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時間2025/5/3 17:36:51
  • 訪問次數(shù) 1189
產(chǎn)品標簽

UV光固化設(shè)備

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秋山科技(東莞)有限公司是一家專業(yè)從事日本進口色選機,碾米機(胚芽米機、精米機,實驗礱谷機),日本*大米生產(chǎn)線,農(nóng)業(yè)用測定儀器(食味計、白度計、水分計、谷粒判別器,谷物單粒水分計,谷物硬度計),物性測定儀器,食品分析儀器,質(zhì)構(gòu)儀,流變儀,硬度計,光學(xué)儀器,人工太陽能燈等等銷售的科技型公司。秋山科技----世界分選產(chǎn)業(yè)領(lǐng)xian者,為眾多領(lǐng)域提供一liu的色選機而努力。 秋山科技不僅僅是色選機的專業(yè)銷售商,更是一家色選領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新的*。秋山科技擁有領(lǐng)xian的食品色選技術(shù)(高級異物檢驗、生物特性、葉綠素含量、損壞、水分含量、霉菌毒素、異物、小斑點、細微色差、細微瑕疵),透明塑料粒子色選技術(shù)(篩選塑料粒子黑點和變色異物、可以篩選的原料及異物舉例PET, PBT, POM, PS, PP, PA, PC, ABS, PBT, PE, PPS, PVA, SAP)。

 

日本實驗礱谷機、日本實驗精米機、日本質(zhì)構(gòu)儀、日本光學(xué)儀器、日本nikkato氧化鋯球、日本nikkato氧化鋁球、taimei氧化鋁球、ATOMAX 噴嘴、

產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥

日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機TM-03

納米壓印法作為一種通過在樹脂或玻璃上按壓經(jīng)過數(shù)十至數(shù)百納米的超細加工的金屬模具而在短時間內(nèi)產(chǎn)生大量相同形狀的零件的技術(shù)而引起人們的注意。該方法也大致分為通過加熱軟化并進一步冷卻和固化的熱固化方法,以及使用UV固化樹脂并通過UV光固化的光固化方法。

型號TM-03

該設(shè)備是一種小型的研究設(shè)備,可以打印20 mm×20 mm的樣品。迄今為止,我們已經(jīng)制造出許多壓印裝置,它們相對較大,并且我們還不能改善世界上與壓印裝置有關(guān)的問題,例如研究成本負擔和確保安裝位置。做到了。

因此,我們創(chuàng)建了一種小型且不會占用實驗室空間的設(shè)備,并且可以在各種條件下進行研究。該納米壓印裝置主要是從大學(xué)研究和實驗的角度來制造的,由于消除了納米壓印裝置的昂貴引入的圖像,因此我們在考慮了裝置的尺寸和可用性之后也生產(chǎn)了這種尺寸的納米壓印裝置。壓印方法使用光固化方法,并且可以記錄圖形和表格數(shù)據(jù)。您為什么不比以往更輕松地嘗試使用新技術(shù)進行現(xiàn)場實驗?

[此設(shè)備的規(guī)格]

壓印方法光固化方法
紫外線裝置性能
光強度400 mW / cm2 波長大365 mm
壓剝負荷0.1?100N
樣本量20毫米x 20毫米
壓機剝離速度1?1000微米/秒
電源供應(yīng)100伏交流電
樣品板硅晶片/玻璃基板
設(shè)備重量約25kg

型號TM-04

型號TM-04

到目前為止,納米壓印設(shè)備已經(jīng)在各個地方進行了實驗,并且每天都在進行實際研究。到目前為止,我們已經(jīng)制造了各種壓印設(shè)備,但是還沒有制造簡單的壓印設(shè)備。

因此,我們創(chuàng)建了前suo未有的納米壓印設(shè)備,其概念是“無論光固化電源的位置如何,都可以攜帶一個簡單的便攜式壓印設(shè)備”。設(shè)備上裝有LED型紫外線燈,并使用電機驅(qū)動器進行升降,調(diào)節(jié)升降速度的操作很簡單。

多可施加200N的壓力傳遞壓力,而Φ20則可用于基材。首先,對于那些希望通過簡單的測試機廉價地打標的人來說,這是一臺推薦的機器。

[此設(shè)備的規(guī)格]

壓印方法光固化方法
紫外線裝置性能光強度6.0 mW / cm2
波長大370 mm
壓載1?20牛
樣本量10毫米x 10毫米
壓機剝離速度20毫米/秒
電源供應(yīng)AC100V或
DC12V 2.3A小電池
樣品板硅晶片/玻璃基板
設(shè)備尺寸

高469 x寬300 x深200(毫米)

日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機TM-03

型號TMR-02

型號TMR-02

本設(shè)備使用EB曝光系統(tǒng)通過熱固化或UV固化在大直徑輥(Φ150)上雕刻刻有輥壓印模具小直徑輥(Φ30)的納米圖案,以形成小直徑輥圖案。這是一種測試輥壓印設(shè)備,可將這種大直徑輥式模具的納米圖案轉(zhuǎn)印到薄膜上,然后將薄膜轉(zhuǎn)印到大直徑輥上。

[此設(shè)備的規(guī)格]

壓印方法熱固化法/ UV固化法
滾滾Φ300x 150
按對象0.08?0.2噸
大輥壓負荷500N
單位面積負荷3.92牛頓/毫米²
涂布方式尺寸壓制法/逗號滾模法

 

型號TM-02

型號TM-02

該裝置的納米壓印裝置可以通過該單元實現(xiàn)同時具有熱固化和光固化的兩種方法,并且壓印是通過從頂部進行印刷壓力來進行的。

除了設(shè)置所需的壓力負荷/速度和剝離負荷/剝離速度以外,還可以在PC上記錄研究/開發(fā)試生產(chǎn)所需的各種條件和測量結(jié)果,以便將來進行生產(chǎn)。它是在設(shè)置條件中起作用的設(shè)備。

[此設(shè)備的規(guī)格]

壓印方法熱固化法/光固化法
壓力/加載速度(總壓力)1?1000微米/秒
大負荷從室溫到250°C
工作尺寸50 x 50毫米

【測試條件】

 

  • 負載檢測
  • 壓機速度
  • 剝離速度
  • 真空度/每個溫度
  • 每一次


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