世偉洛克ALD原子沉積隔膜閥

世偉洛克是半導體芯片制造應用的行業(yè)技術壁壘和解決方案提供商，同時也是 ALD 閥門技術的*。我們的 ALD 超高純 (UHP) 閥具有以下特點：
高速啟動下的超高循環(huán)壽命
Cv 范圍從 0.27 1.7
使用熱動元件時，全浸沒溫度高達 392°F (200°C)
適合于采用標準 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的 UHP 應用
模塊化表面安裝、卡套管對焊和 VCR 端接
電子或光學執(zhí)行機構位置傳感選購件

世偉洛克ALD原子沉積隔膜閥

 ALD 隔膜閥具有超長的使用壽命、高速的啟動和高達 0.62 的流量系數，與熱執(zhí)行機構、位置傳感器和電磁閥配合使用，可在原子層沉積應用場合實現(xiàn)佳性能。
規(guī)格
工作壓力 真空 145 psig (10.0 bar) 
爆裂壓力 3200 psig (220 bar) 
執(zhí)行壓力 50 90 psig（3.5 6.2 bar） 
溫度 32° 392°F（0° 200°C） 
流量系數(Cv) 0.27 或 0.62 
閥體材料 316L VIM-VAR 不銹鋼 
隔膜材料 鈷基高溫合金 
端接 
類型（尺寸） 內螺紋 VCR 面密封接頭（1/4 in. 1/2 in.）
外螺紋 VCR 面密封接頭（1/4 in. 1/2 in.）
模塊化表面安裝高流量 C 型密封（1.125 in. 1.5 in.