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化學拋光機

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拋光機

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MCF公司自成立以來一直致力于半導體及及晶體材料高精度磨拋設備及工藝的研發(fā)和制造。MCF生產(chǎn)制造中心設立在德國慕尼黑,研發(fā)技術中心設立在蘇格蘭的格拉斯哥大學城,工藝技術中心設立在比利時布魯塞爾。我們的產(chǎn)品包括精密研磨拋光設備,等離子清洗機,激光干涉儀,3D輪廓儀,紅外顯微鏡,探針臺等設備;我們也根據(jù)客戶技術要求提供專屬定制傳感器,更關注開發(fā)前沿傳感器技術,如基于SiC,Sapphire的高溫動態(tài)壓力傳感器。傳承歐洲50多年半導體的專業(yè)技術和成功經(jīng)驗,MCF產(chǎn)品進入中國市場20年與業(yè)內(nèi)多家研究院所,大學及工業(yè)界的合作卓有成效,獲得業(yè)內(nèi)用戶*。為保證中國用戶提供高效,專業(yè)的技術服務,我們在中國北京,香港分別設立辦公室和常規(guī)備品備件倉庫。了解更多信息,請聯(lián)絡MCF中國!www.mcfsens.com

精密研磨拋光設備,相關耗材,非接觸式測厚儀

 現(xiàn)代電子設備不僅要求在平面度,樣品平行度和厚度方面對晶片幾何形狀進行越來越嚴格的控制,而且還要求對樣品進行非常高質(zhì)量的表面處理以作為后續(xù)工藝的準備。

為了實現(xiàn)這一目標,MCF開發(fā)了*的化學拋光作為多種材料的精加工工藝。該系統(tǒng)可實現(xiàn)出色的表面拋光,并且對晶格結(jié)構(gòu)的表面和亞表面損傷小。

這些系統(tǒng)可抵抗使用溴甲烷,過氧化物堿性或酸蝕等拋光工藝中使用的化學物質(zhì)。

聚丙烯,PVDF和環(huán)氧漆聚氨酯的耐腐蝕結(jié)構(gòu)。

適應性的樣品臺布置,以適應變化的樣本大小和幾何形狀。

注意安全方面和操作員的便利性。

適用于大多數(shù)類型的侵蝕性蝕刻劑(例如溴甲醇)

 

技術數(shù)據(jù)

表面損傷小化
可以拋光多種晶片尺寸,分別為3×3″,3×4″,2×3″和1×4″。
半導體晶片和電光晶體的精細蝕刻拋光。

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