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上海伯東代理KRI 考夫曼離子源 KDC 10

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海伯東是德國 Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 比利時(shí) Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌代理商 .我們真誠期待與您的合作!




質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 一個(gè)月以上 規(guī)格 KDC 10
貨號(hào) KDC 10 主要用途 真空鍍膜

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)

KRI 考夫曼離子源 KDC 10

上海伯東代理美國* KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列小型號(hào)的離子源. 適用于集成在小型的真空設(shè)備中, 例如預(yù)清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在<1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時(shí)離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設(shè)計(jì), 低成本等優(yōu)點(diǎn)廣泛應(yīng)用在顯微鏡領(lǐng)域, 標(biāo)準(zhǔn)配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 10mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

KDC 10

供電

DC magnetic confinement

- 陰極燈絲

1

- 陽極電壓

0-100V DC

- 柵極直徑

1cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1202

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

- 架構(gòu)

移動(dòng)或快速法蘭

- 高度

4.5'

- 直徑

1.52'

- 離子束

集中
平行
散設(shè)

-加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

-工藝氣體

惰性
活性
混合

-安裝距離

2-12”

- 自動(dòng)控制

控制4種氣體


KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應(yīng)用領(lǐng)域
離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息, 請聯(lián)絡(luò)上海伯東羅先生




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