OTF-1200X-S-HPCVD 坩堝（樣品臺）可移動型1200°C管
- 公司名稱 南京淳寅嘉生物科技有限公司
- 品牌 合肥科晶
- 型號 OTF-1200X-S-HPCVD
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2021/3/9 17:40:11
- 訪問次數(shù) 381
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè) |
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| 高溫爐部分 | 爐體設(shè)計為開啟式，以便于更換爐管工作電源∶ 208.240 VAC，50/60Hz z功率為∶2KW 工作溫度∶1200℃（<1hr）連續(xù)工作溫度∶ 1100℃加熱區(qū)長度∶ 200m 恒溫區(qū)長度∶60mm（-1℃@1000℃）注∶由于測量里手段及外部環(huán)境的影響，測里結(jié)果可能會有偏差，此參數(shù)僅供參考不作為該設(shè)備的技術(shù)指標(biāo)。您購買產(chǎn)品需要準(zhǔn)確的恒溫區(qū)數(shù)據(jù)，請與我公司銷售人員 爐管∶ 高純石英管，尺寸50mm ODx44mmIDx450mmL） | |
| 溫度控制系統(tǒng) | 采用PID30段程序化控溫，其控溫精度為--1℃控溫儀表操作視頻設(shè)有過熱和斷偶保護(hù)熱電偶采用K型熱電偶 | |
| 真空密封 | 采用KF結(jié)構(gòu)密封法蘭，硅膠密封圈密封法蘭上安裝有一機(jī)械壓力表 右端法蘭與一個真空不銹鋼波紋管連接（不銹鋼波紋管伸縮幅度為150mm）真空度∶ 10-2Torr（用機(jī)械泵抽） 10-5Tor（用分子泵抽） | |
| 坩堝移動機(jī)構(gòu)&PLC控制 | 一個直徑為14"的歐米伽鎧裝熱電偶（K型），通過法蘭伸入到爐管中，并可隨坩堝移動，可實時監(jiān)測樣品的實際溫度。 通過步進(jìn)電機(jī)移動爐管內(nèi)的坩堝（樣品臺），行程為100mm，移動精度為1mm 通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標(biāo)位置，坩堝移動速度為180mm min（更準(zhǔn)的移動速度，可與本公司定制，需額外收費(fèi)） 可觀察下圖，了解坩堝與熱電偶的安裝方法 | |
| 加熱速率和冷卻速率 | 可通過移動樣品到已預(yù)加熱的爐體中來得到加熱速率，也可將樣品迅速移除高溫的爐體，來得到降溫速率的 降溫速率 加熱速率 10℃C/sec (950℃C-900℃); 10℃℃/sec (150℃.250℃); [7℃/sec (900℃-850℃); 7℃/sec (250℃.350℃); l℃/sec (850℃-750℃);℃/sec (350℃- 500℃); 2℃Csec(750℃-600℃C; B℃C/sec(6500℃.5s0℃); 1.5℃sec(600℃-500℃; 2℃/sec(550℃-650℃); 1℃C/e(500℃-400℃; 1℃C/sec(650℃-800℃); 0.5℃Csec400℃.300℃C); 0.5℃/sec(800℃-1000℃; | |
| 可選配件 | 可選購手動擋板閥（圖1）防腐型數(shù)顯真空計（圖4） 快速連接法蘭，以方便于放置樣品（圖2） 多路質(zhì)量流量計控制的混氣系統(tǒng)，用于CVD和DVD實驗（圖5） | |
| 尺寸 | ||
| 質(zhì)保 |
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| 質(zhì)量認(rèn)證 | CE認(rèn)證 所有電器元件（>24V）都通過UL /MET /CSA認(rèn)證 | |
| 注意事項 | 若客戶出認(rèn)證費(fèi)用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MP-0.1MPa，使用時會更加安全 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相，保持在常壓狀態(tài) 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊石英管的長時間使用溫度<1100℃ 對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等） | |
| 應(yīng)用 | 此款設(shè)備可用于多種實驗，以下列出了幾種實驗方法 RTE（快速熱蒸發(fā)）∶蒸發(fā)料放在坩堝中，放入到爐體中心，基片放在樣品臺上，樣品臺與熱電偶相連接，然后將樣品臺移動到理想的位置（此位置溫度是實驗所需要的溫度） HPCVD（混臺物理化學(xué)沉積）;與RTE相似，但需配混氣系統(tǒng)，對反應(yīng)氣體混臺并控制流量，同時也需設(shè)定蒸發(fā)料的位置（確定蒸發(fā)料的蒸發(fā)溫度） 水平布里奇曼（Bridgman）法來長晶體∶將樣品和籽晶放入到坩堝中，并將坩堝放入到爐體中心位置，然后設(shè)定坩堝移動速度，慢慢移動坩堝
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| 一年質(zhì)保期，終生維護(hù) （不含加熱元件、爐管和密封圈） |
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