光學(xué)薄膜等離子設(shè)備價(jià)格：誠峰智造

 全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN

名稱（Name）

全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)（Model）

CRF-APO-500W-XN

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz

等離子功率（Plasma power）

10KW（Max）/40KHz（Option）

有效處理寬幅（Processing width）

120mm-1200mm（Option）

有效處理高度（Processing   height）

3mm~8mm（Max）

處理速度（Processing speed）

0-8m/min

工作氣體（Gas）

N2/N2+CDA

產(chǎn)品特點(diǎn)： 內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達(dá)10eV以上，

材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應(yīng)用范圍：應(yīng)用于FPC＆PCB表面處理，復(fù)合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理。

光學(xué)薄膜等離子設(shè)備價(jià)格

 等離子清洗機(jī)清洗影響速度的情況有：所處理的材料不一致，工藝不一致，驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)不一致，噴頭等離子體與材料的距離不一致，等離子體的功率和進(jìn)氣壓力都會(huì)影響等離子體的速度。一般問生產(chǎn)線上速度會(huì)有多快滿足生產(chǎn)要求，我們不能給出準(zhǔn)確的答案，具體的得看實(shí)際需求。
在數(shù)千客戶的應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)基礎(chǔ)上，等離子清洗機(jī)對(duì)手機(jī)按鍵、手機(jī)殼進(jìn)行粘合前表面處理，一般速度在2-8米以內(nèi)；密封涂裝前處理速度在5-20米以內(nèi)；植絨前處理速度在2-8米以內(nèi)；涂裝后涂膜和手機(jī)蓋板表面有機(jī)物清洗，一般采用雙槍噴涂，處理速度在0.5-1.5米之間(流水線寬70cm，由聯(lián)合機(jī)械手來回處理)；糊盒機(jī)采用等離子清洗機(jī)直噴噴頭，涂裝后涂膜材料的速度在400米以內(nèi)，UV光彩盒稍慢，一般在110米以內(nèi)；PVC卡噴UV墨水表面處理，一般生產(chǎn)速度在12-25米之間；如需咨詢其他工業(yè)速度參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系誠峰智造銷售部。