60K 桌面型

60K 寬噴型

高覆蓋率超聲波光刻膠噴涂系統(tǒng)簡介：

    在傳統(tǒng)的高速旋涂無法提供均勻覆蓋深孔形貌或高縱橫比的應(yīng)用中，高覆蓋率超聲波光刻膠噴涂系統(tǒng)用均勻的光刻膠薄膜涂覆半導(dǎo)體成為了完整的解決方案。與傳統(tǒng)的旋涂相比，采用超聲波噴涂的光致抗蝕劑涂層在沉積更均勻的涂層方面具有優(yōu)勢，特別是在高深寬比溝槽和v形槽結(jié)構(gòu)中沿側(cè)壁頂部沉積時，離心旋涂無法沉積均勻的涂層沿著側(cè)壁形成膜，而沒有過多的光致抗蝕劑沉積在腔體的底部。事實證明，使用超聲技術(shù)進(jìn)行直接噴涂是將光刻膠沉積到3D微結(jié)構(gòu)上的可靠且有效的方法，從而減少了因金屬過度暴露于抗蝕劑涂層而導(dǎo)致的設(shè)備故障。

噴嘴：

噴嘴由高強(qiáng)度鈦合金和其他專有金屬制造，使它們特別耐化學(xué)腐蝕，并提供*的聲學(xué)性能。我們提供類型有：長嘴型--寬噴型--探入型--散射型--聚攏型--線噴型等六種超聲波霧化噴嘴。

優(yōu)勢：

1、在MEA制造中證明了鉑的利用率高達(dá)90%。

2、高孔涂層非常耐用，防止催化劑層開裂或剝落。

3、可減少50%的材料消耗，減少過噴，節(jié)省昂貴的催化劑墨水。

4、清潔， 的噴霧模式，易于成型各種圖案。

5、高度可控的噴霧，產(chǎn)生可靠一致的結(jié)果。

6、不堵塞的霧化噴霧，不會偏離軌跡。

7、超低流量能力，可間歇或連續(xù)噴涂。

8、超聲振動不斷地打破團(tuán)聚的顆粒，使其均勻分散，使鉑的利用率 化。

9、能夠用非常小的液體樣品(只需10ml的催化劑溶液涂覆多個PEM)。適用于研發(fā)階段。

10、對PEM有及好的粘附性，于高振動燃料電池應(yīng)用，如汽車零部件。

服務(wù)：

    我們提供用于霧化噴涂的各種超聲波處理器。我們也隨時為您提供滿意的加工定制服務(wù)并為您提出 解決方案。