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替代IRFB4110-半導(dǎo)體MOS管
參考價 | ¥ 1000 |
訂貨量 | ≥1個 |
- 公司名稱 蘇州華鎂憶芯半導(dǎo)體有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2022/4/19 10:38:03
- 訪問次數(shù) 235
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,電氣 |
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通道類型 | N | VX | 15-35-70-46-070 |
替代IRFB4110應(yīng)用電鉆MOS管工藝
IRFB4110EPI SGT MOSFET的器件結(jié)構(gòu)示意圖和在相同總體EPI厚度下及相同反向耐壓下單層、雙層及三層EPI結(jié)構(gòu)器件內(nèi)部的電場
分布仿真曲線6,可以看出無論在相同的EPI厚度下,還是在相同的耐壓下,三層EPI SGT MOSFET結(jié)構(gòu)器件內(nèi)部電場峰值均小于雙層和單層EPI結(jié)構(gòu),且電場分布更加均勻。對于150V器件,在總體10um的EPI厚度下,三層EPI的反向擊穿電壓BV和R8分別達(dá)到164.5V和67.8mΩ·m㎡,BV比雙層和單層EPI結(jié)構(gòu)分別提高了6.9%和25.6%,R比雙層和單層EPI結(jié)構(gòu)分別降低了30.4%和62%.
IRFB4110在早期的研究中,人們把Trench MOS研究的焦點集中在擊穿電壓在50V以下的應(yīng)用上。主要關(guān)注Trench MOS的特征導(dǎo)通電阻。通過增加單胞密度,縮短溝道長度,降低閾值電壓等方法使得Trench MOS的源漏RpsON最小。1989年30V傳統(tǒng)Trench MOS(阻下簡稱LIMOS)原胞密度可以做到1000uΩ.c㎡,1991年傳統(tǒng)UMOS就得到了長足的發(fā)展,50V耐壓下原胞密度能達(dá)到580uΩ.c㎡7.隨著Trench MOS越來越廣泛的應(yīng)用。柵電容也逐漸成為人們關(guān)注的又一個焦點。由于柵電容直接關(guān)系到器件的開關(guān)速度,許多高頻的應(yīng)用希望Trench MOS的電容越低越好。但是,柵電容是隨著單胞密度的增加而增加,所以它和器件的特征導(dǎo)通電阻是矛盾的。于是接著,許多研究就開始集中在RDSON和Qgd乘積Fom值上。
替代IRFB4110常見問題
IRFB4110MOS管失效的6大原因:1)雪崩失效(電壓失效):也就是我們常說的漏源間的BVdss電壓超過MOS管的額定電壓,并且超過達(dá)到了一定的能力從而導(dǎo)致MOS管失效。2)柵極電壓失效:由于柵極遭受異常電壓尖峰,而導(dǎo)致柵極柵氧層失效。3)靜電失效:在秋冬季節(jié),由于人體及設(shè)備靜電而導(dǎo)致的器件失效。4)諧振失效:在并聯(lián)使用的過程中,柵極及電路寄生參數(shù)導(dǎo)致震蕩引起的失效。
體二極管失效:在橋式、LLC等有用到體二極管進行續(xù)流的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)中,由于體二極管遭受破壞而導(dǎo)致的失效。5)SOA失效(電流失效):既超出MOS管安全工作區(qū)引起失效,分為ld超出器件規(guī)格失效以及l(fā)d過大,損耗過高器件長時間熱積累而導(dǎo)致的失效。
雪崩失效(電壓失效):底什么是雪崩失效呢?簡單來說MOS管在電源板上由于母線電壓、變壓器反射電壓、漏感尖峰電壓等等系統(tǒng)電壓疊加在MOS管漏源之間,導(dǎo)致的一種失效模式。簡而言之就是MOS管漏源極的電壓超過其規(guī)定電壓值并達(dá)到一定的能量限度而導(dǎo)致的一種常見的失效模式。
雪崩破壞的預(yù)防措施:理降額使用。目前,行業(yè)內(nèi)降額一般選擇80%-95%的降額。具體情況根據(jù)公司保修條款和電路重點來選擇。理的變壓器反射電壓。理的RCD和TVS吸收電路設(shè)計。大電流接線盡量采用大、小布置,以減小接線寄生電感。
選擇一個合理的門電阻Rg.在大功率電源中,可以根據(jù)需要增加RC阻尼或齊納二極管吸收。
冊極電壓失效:造成柵極電壓異常高的主要原因有三:產(chǎn)、運輸、裝配過程中的靜電;電力系統(tǒng)運行中設(shè)備和電路寄生參數(shù)引起的高壓諧振;通過Gad傳檢到網(wǎng)
例
鋰電池保護板做充放電開關(guān)使用
一般情況下,MOS都處于開或關(guān)的狀態(tài),不用考慮MOS的開關(guān)速度,會在整體電路上設(shè)計了快速關(guān)閉回路。
要注意以下幾個點:
1,注意DS電壓,設(shè)計選型留有足夠的余量。按照1.5倍MOS管的BVDDS
2,注意工作電流與保護電流,經(jīng)驗值是3~4倍以上為MOS的ID(DC) 。
3,多顆MOS并聯(lián),電流的余量盡量再大一點。
4,走大電流的方案,要綜合考慮封裝散熱,內(nèi)阻。
5,驅(qū)動電壓要了解,盡量使MOS工作在*開啟狀態(tài),對于單片機驅(qū)動的方案,盡量推薦低開啟的MOS。
另外在選用MOS管時要注意溝道類型,BVDDS ,ID導(dǎo)通電流,VGS(th),RDSON這幾項參數(shù)。
公司介紹
華鎂公司,為一家專業(yè)功率半導(dǎo)體組件(MOSFET)和集成電路芯片的設(shè)計公司。憑借著堅實的產(chǎn)品開發(fā)、營銷業(yè)務(wù)及營運團隊。提供性能優(yōu)異、高信賴性、高性價比的產(chǎn)品及滿足客戶需求的服務(wù),已獲得眾多客戶于其節(jié)能電子產(chǎn)品中的廣泛使用。目前華鎂可提供的功率半導(dǎo)體元器件產(chǎn)品(12V~1200V)和集成電路芯片(鋰電保護和控制驅(qū)動芯片),產(chǎn)品應(yīng)用范圍含蓋計算機(個人計算機與服務(wù)器)、電源供應(yīng)器、通訊電子產(chǎn)品、手持式電子裝置、消費性產(chǎn)品及工業(yè)應(yīng)用產(chǎn)品等。
華鎂整個團隊秉持著“成就客戶、努力奮斗、持續(xù)學(xué)習(xí)、進取創(chuàng)新、誠信正直、團隊合作”理念,并已累積15年以上的產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗及50余個世界
華鎂研發(fā)總部設(shè)在中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)(302 新竹縣竹北市),國內(nèi)研發(fā)和應(yīng)用總部位于張家港市和蕪湖市,國內(nèi)市場主要以成品及Wafer銷售和配套服務(wù)為主。
替代IRFB4110應(yīng)用電鉆MOS管封裝
IRFB4110有些電子系統(tǒng)受制于PCB的尺寸和內(nèi)部的高度,如通信系統(tǒng)的模塊電源由于高度的限制通常采用DFN5*6、DFN3*3的封裝;在有些ACDC的電源中,使用超薄設(shè)計或由于外殼的限制,適于裝配TO220封裝的功率MOS管,此時引腳可直接插到根部,而不適于使用TO247封裝的產(chǎn)品;也有些超薄設(shè)計需要將器件管腳折彎平放,這會加大MOS管選用的復(fù)雜度。
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