日本日立冷場發(fā)射掃描電鏡SEM核心參數(shù)：

產(chǎn)品類型：落地式/傳統(tǒng)大型

電子槍種類：冷場發(fā)射

二次電子圖象分辨率：0.6 nm@15kV；0.7nm@1kV

放大倍數(shù)：20-2,000,000x

加速電壓：0.5-30kV（標準模式）

背散射電子圖像分辨率：nm

日本日立冷場發(fā)射掃描電鏡SEM創(chuàng)新點：

1、支持自動獲取數(shù)據(jù)在FE-SEM的觀察和分析中，需要根據(jù)測量樣品與需求調整觀察條件。調整所需時間的長短取決于用戶的操作熟練度，這是造成數(shù)據(jù)質量與效率差異的因素之一。此系列產(chǎn)品標配自動調整功能，可避免人為操作導致的差異。此外，隨著儀器性能的提升，需要獲取的數(shù)據(jù)種類與數(shù)量也在增加，手動獲取各種大量數(shù)據(jù)會大大增加用戶的作業(yè)負擔。此系列產(chǎn)品可選配“EMFlow Creator”，用戶可根據(jù)自身需求設定條件，自動獲取數(shù)據(jù)，這對于未來通過獲取大量數(shù)據(jù)實現(xiàn)數(shù)據(jù)驅動開發(fā)起到重要作用。

2、增加獲取信息的種類與數(shù)量通過SEM能夠收集到多種信號，且此系列產(chǎn)品多可以同時顯示和存儲6個檢測器的信號。在減少圖像獲取次數(shù)的同時能夠獲取多種信息。此外，為一次性獲取大量信息，像素擴展到了40,960 x30,720（選配），是之前型號的64倍。利用這一功能，可憑借一張數(shù)據(jù)圖像有效評估多處局部的細微結構。

3、增強信號檢測能力，SU8600開發(fā)了多個新型選配檢測器，加強了對凹凸信息、發(fā)光信息的檢測能力。此外，還提高了背散射電子信號檢測的響應速度。

上市時間：2021年12月。

產(chǎn)品介紹：

FE-SEM獲得的圖像分辨率高，信息豐富，樣品處理相對簡單，并且它可以觀察、測量并分析樣品的細微結構，因此被廣泛應用于納米技術、半導體、電子器件、生命科學、材料等領域。近年來，以MaterialsIntegration為代表，其應用領域及用途在不斷擴展，短時間內獲取大量數(shù)據(jù)，減輕作業(yè)負荷成為市場的一大需求。為滿足這一需求，此次特推出的SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高質量圖像、大束流分析及長時間穩(wěn)定運行的冷場成像技術，同時還大大提升了高通量、自動數(shù)據(jù)獲取能力。

在細微結構分析中，SU8600可以實現(xiàn)低加速電壓觀察，對高分子等易受電子束照射影響的材料進行高分辨觀察。該系列產(chǎn)品的特點如下：

1、支持自動獲取數(shù)據(jù)

在FE-SEM的觀察和分析中，需要根據(jù)測量樣品與需求調整觀察條件。調整所需時間的長短取決于用戶的操作熟練度，這是造成數(shù)據(jù)質量與效率差異的因素之一。此系列產(chǎn)品標配自動調整功能，可避免人為操作導致的差異。

此外，隨著儀器性能的提升，需要獲取的數(shù)據(jù)種類與數(shù)量也在增加，手動獲取各種大量數(shù)據(jù)會大大增加用戶的作業(yè)負擔。此系列產(chǎn)品可選配“EMFlow Creator”，用戶可根據(jù)自身需求設定條件，自動獲取數(shù)據(jù)，這對于未來通過獲取大量數(shù)據(jù)實現(xiàn)數(shù)據(jù)驅動開發(fā)起到重要作用。

2、增加獲取信息的種類與數(shù)量

通過SEM能夠收集到多種信號，且此系列產(chǎn)品多可以同時顯示和存儲6個檢測器的信號。在減少圖像獲取次數(shù)的同時能夠獲取多種信息。

此外，為一次性獲取大量信息，像素擴展到了40,960 x30,720（選配），是之前型號的64倍。利用這一功能，可憑借一張數(shù)據(jù)圖像有效評估多處局部的細微結構。

3、增強信號檢測能力

SU8600開發(fā)了多個新型選配檢測器，加強了對凹凸信息、發(fā)光信息的檢測能力。此外，還提高了背散射電子信號檢測的響應速度。