半導體專用溫控裝置chiller

主要應(yīng)用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精ZHUN控制，具有溫度穩(wěn)定性高、溫度范圍廣、故障診斷、外部通信等豐富功能的裝置。在半導體制作過程/激光加工機/分析裝置/FPD制造裝置等用途中成果較多。

本設(shè)備采用變頻控溫方式，提高能效，減少能耗。-20℃下目標制冷量可以達到3600W，滿足用戶制冷需求。精QUE控溫，控溫穩(wěn)定性達到±0.1℃，使用范圍廣，設(shè)定溫度：-20℃~80℃。

半導體專用溫控裝置chiller

應(yīng)用于半導體行業(yè)蝕刻裝置，CMP (工藝機械拋光)，實驗室精密裝置、高精度測試儀器、醫(yī)美設(shè)備、固態(tài)激光器、模具溫控等。

溫控精度（空載時）±0.05℃

觸摸屏操作，人機交互界面

連鎖控制、可靠性高

定時運轉(zhuǎn)、液面降低、停電復位、防凍功能

溫度波動小

占地面積小、保護裝置

快速升溫/降溫、提高生產(chǎn)效率、降低運營成本和保障生產(chǎn)

運行穩(wěn)定、準確控溫

可用選項

省空間、省配線、省配管、省工時、雙變頻型更節(jié)能。

可對應(yīng)溫度穩(wěn)定性（空載時）±0.05℃。

循環(huán)液：氟化液、60%乙二醇水溶液、清水、去離子水(純水)

冷卻方式：水冷式

應(yīng)用于半導體行業(yè)蝕刻裝置，CMP (工藝機械拋光)，實驗室精密裝置、高精度測試儀器、醫(yī)美設(shè)備、固態(tài)激光器、模具溫控等。

溫控精度（空載時）±0.05℃

觸摸屏操作，人機交互界面

連鎖控制、可靠性高

定時運轉(zhuǎn)、液面降低、停電復位、防凍功能

溫度波動小

占地面積小、保護裝置

快速升溫/降溫、提高生產(chǎn)效率、降低運營成本和保障生產(chǎn)

運行穩(wěn)定、準確控溫