應(yīng)用范圍

用于DNA/PNA合成

用于全基因引物的合成

用于修飾引物的合成，包括FM、HEX、CY3、CY5等

硬件配置

試劑電磁閥采用德國(guó)Burkert液體閥，精度高達(dá)1ul

運(yùn)動(dòng)采用日本IAI品牌電缸驅(qū)動(dòng)，精度高達(dá)0.1mm

噴嘴是瑞士定制鋼針，噴液流暢，耐腐蝕

電子控制板采用ARM主控，通訊全隔斷，穩(wěn)定可靠

DELL品牌電腦及液晶顯示器

工作條件

電源：交流220V

功率：350W（含電腦）

工作溫度：15～25℃

相對(duì)濕度：20%以內(nèi)

使用氣體：氮?dú)猓?/span>N?）、氬氣（Ar）、氦氣（He）

技術(shù)規(guī)格

一次合成4塊384孔板

單柱合成規(guī)模:2nmol-200nmol

合成種類：DNA、RNA、修飾引物

普通堿基瓶位4個(gè)，修飾單位瓶位3個(gè)，硫代瓶位1個(gè)

輔助試劑瓶為16個(gè)

單板單循環(huán)時(shí)間為5-6min

供氣壓力：110-120PSL

設(shè)備尺寸：1600*750*1250(mm)

設(shè)備尺寸

獨(dú)立的壓力體系

獨(dú)立的密封腔體，壓力互不影響

一次合成通量1536條

縱向打液方式

液位檢測(cè)系統(tǒng)

設(shè)備兼容兩種模式：96或384孔板

運(yùn)動(dòng)軌道設(shè)計(jì)

多級(jí)別正壓驅(qū)動(dòng)試劑反應(yīng)