超純水 (UPW)、高純度水或高純度水 (HPW) 是經過凈化以達到非常嚴格的規(guī)格的水。 超純水是制造業(yè)中常用的一個術語，用于強調這樣一個事實，即針對所有污染物類型對水進行最高純度處理，包括：有機和無機化合物； 溶解物和顆粒物； 揮發(fā)性和非揮發(fā)性； 反應性和惰性； 親水性和疏水性； 和溶解的氣體。

UPW 與常用術語去離子 (DI) 水不同。 除了 UPW 去除有機顆粒和溶解氣體這一事實外，典型的 UPW 系統(tǒng)還包括三個階段：生產純凈水的預處理階段，進一步凈化水的初級階段，以及拋光階段，這是最昂貴的部分 治療過程。

許多組織和團體制定并發(fā)布了與 UPW 生產相關的標準。

zui廣泛使用的 UPW 質量要求記錄在 ASTM D5127 電子和半導體行業(yè)超純水標準指南和半導體加工超純水 SEMI F63 指南中。

超純水也被用作英國 AGR 船隊的鍋爐給水。

細菌、顆粒、有機和無機污染源因多種因素而異，包括制造超純水的給水，以及用于輸送它的管道材料的選擇。 通常以每體積 UPW 的菌落形成單位 (CFU) 報告細菌。 顆粒使用每體積 UPW 的數(shù)量。 總有機碳 (TOC)、金屬污染物和陰離子污染物均以無量綱的單位表示法測量，例如 ppm、ppb、ppt 和 ppq。

細菌被稱為該列表中最頑固的控制之一。 有助于xxx限度減少 UPW 流內細菌菌落生長的技術包括偶爾的化學或蒸汽消毒（這在制藥行業(yè)很常見）、超濾（在一些制藥行業(yè)，但主要是半導體行業(yè)）、臭氧化和優(yōu)化管道系統(tǒng)設計，以促進 使用最小流量的雷諾數(shù)標準，以及最小化死角。 在現(xiàn)代和先進的 UPW 系統(tǒng)中，通常在新建設施中觀察到陽性（高于零）細菌計數(shù)。 這個問題可以通過使用臭氧或過氧化氫進行消毒來有效解決。 通過正確設計拋光和分配系統(tǒng)，在 UPW 系統(tǒng)的整個生命周期中通常不會檢測到陽性細菌計數(shù)。

UPW 中的顆粒是半導體行業(yè)的禍根，會導致定義納米尺寸特征的敏感光刻工藝出現(xiàn)缺陷。 在其他行業(yè)，它們的影響可能從令人討厭到危及生命的缺陷不等。 可以通過過濾和超濾來控制顆粒。 來源可能包括細菌碎片、管道濕流中組件壁的脫落，以及用于構建管道系統(tǒng)的連接過程的清潔度。

超純水中的總有機碳可以通過提供養(yǎng)分促進細菌增殖，可以在敏感的熱過程中作為碳化物替代另一種化學物質，以不需要的方式與生物加工中的生化反應發(fā)生反應，并且在嚴重的情況下會留下不需要的殘留物 在生產零件上。 TOC 可能來自用于生產 UPW 的進水、來自用于輸送 UPW 的成分（制造管道產品中的添加劑或擠出助劑和脫模劑）、來自管道系統(tǒng)的后續(xù)制造和清潔操作，或來自臟管道 、配件和閥門。

超純水系統(tǒng)中的金屬和陰離子污染會關閉生物工藝中的酶促過程，腐蝕發(fā)電行業(yè)的設備，并導致半導體芯片和光伏電池中的電子元件出現(xiàn)短期或長期故障。 它的來源與 TOC 的來源相似。 根據(jù)所需的純度水平，這些污染物的檢測范圍從簡單的電導率（電解）讀數(shù)到復雜的儀器。