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VTC-600GD 高真空磁控濺射儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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  沈陽科晶立足國內(nèi)市場實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會(huì)成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。


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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
產(chǎn)品簡介VTC-600GD高真空磁控濺射儀

VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點(diǎn)VTC-600GD高真空磁控濺射儀
  • 至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。

  • 可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

  • 體積小,操作簡便。

  • 整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。

  • 可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù)VTC-600GD高真空磁控濺射儀
產(chǎn)品名稱 VTC-600GD高真空磁控濺射儀
產(chǎn)品型號(hào) VTC-600GD
安裝條件 本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:需要
主要參數(shù) 1、電源電壓:220V  50Hz
2、總功率:<3.5KW
3、腔體內(nèi)徑:Ø300mm
4、極限真空8.0x10-5Pa
5、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:4個(gè)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W(可選)
10、射頻濺射功率:300W
11、載樣臺(tái):Ø140mm
12、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
13、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體
14、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,1個(gè)流量為100 SCCM,1個(gè)流量為200 SCCM
產(chǎn)品規(guī)格

·尺寸:

主機(jī)尺寸:850mm×760mm×660mm,
整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
·重量:190kg
標(biāo)準(zhǔn)配件VTC-600GD高真空磁控濺射儀
序號(hào) 名稱 數(shù)量 圖片鏈接
1 直流電源控制系統(tǒng) (可選)套 -
2 射頻電源控制系統(tǒng) 1套 -
3 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) 1套 -
4 分子泵 1臺(tái) -
5 冷水機(jī) 1臺(tái) -
6 聚酯PU管(Ø6mm) 4m -
可選配件VTC-600GD高真空磁控濺射儀
序號(hào) 名稱 功能類別 圖片鏈接
1 金、銦、銀、鉑等各種靶材 (可選) VTC-600GD高真空磁控濺射儀-
2 可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 (可選) -

 



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