日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等 TCC-803 特點(diǎn)介紹

TCC-803盒式清洗裝置”型號(hào)是以高附加價(jià)值產(chǎn)品的制造工藝中使用的晶片盒、載體、盒等的精密清洗為清洗裝置。

這是一種適用于小批量多品種生產(chǎn)的緊湊型設(shè)備。

多樣化的半導(dǎo)體器件，進(jìn)入納米區(qū)的設(shè)計(jì)規(guī)則，在日益復(fù)雜的環(huán)境中提高成品率的要求，污染控制（防止雜質(zhì)附著到產(chǎn)品上）是解決這些問(wèn)題的最重要的解決方案之一。

科技視野提供的盒式清洗裝置是支持這種高度清潔的高度清洗技術(shù)冷凝的載體清潔器。

日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等 TCC-803 規(guī)格參數(shù)

精密清洗通過(guò)上下旋轉(zhuǎn)和左右旋轉(zhuǎn)功能，清潔您的每一個(gè)角落 

強(qiáng)力清洗對(duì)晶圓收納槽的整個(gè)表面實(shí)施直角噴涂 

熱純水內(nèi)置清潔加熱器，使用熱純水清洗 

干燥脫水，干燥室兩步干燥 

小占地面積立式設(shè)計(jì)，節(jié)省空間 

1.具備工件上下和左右旋轉(zhuǎn)動(dòng)作功能，精細(xì)清洗工件的每一個(gè)角落。2.實(shí)現(xiàn)對(duì)芯片收納間隙部的整個(gè)面部噴霧清洗的基本原理的直角噴霧。3.近距離強(qiáng)力噴射清洗。4.可根據(jù)各工件進(jìn)行清洗噴嘴的布局。5.內(nèi)置純水加熱用內(nèi)聯(lián)式清潔加熱器。6.作為防止交叉污染的對(duì)策，內(nèi)置了清洗室內(nèi)的自清洗功能。7.清洗室和干燥室是獨(dú)立的。8.洗滌后進(jìn)行99%的脫水后，工件移動(dòng)到干燥室，因此，在不增加干燥室的濕度的情況下，可以可靠地干燥。9.干燥-2確保干燥，不會(huì)對(duì)芯片造成殘留水分的不良影響。