日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 特點介紹

全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘渣的to盒的全自動光掩膜清洗裝置。

干燥采用熱純水干燥，而不是傳統的氣刀干燥，并采用免調節(jié)設計，省去了水飛濺調節(jié)的麻煩。  熱純水干燥

對應的面罩尺寸，最多7英寸。專用盒最多可裝20張。

日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 規(guī)格參數

?輕松去除附著在掩模上的抗蝕劑

?輕松移除蒙版上的粒子

?清洗液開發(fā)對環(huán)境友好的溫和的水溶性藥液

?從熱硫酸和硫酸過水等危險中解脫出來

?不需要昂貴的去除劑和顯影液

用途：平板顯示器，MEMS器件，精細圖案PCB/FPC/TAB，化合物半導體，薄膜電子元件等。

TWC系列可同時去除附著在掩模上的抗蝕劑和顆粒。使用專用藥液去除抗蝕劑和TW系列培養(yǎng)的顆粒去除技術，有助于提高口罩的清潔度。

全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘渣的to盒的全自動光掩膜清洗裝置。

干燥采用熱純水干燥，而不是傳統的氣刀干燥，并采用免調節(jié)設計，省去了水飛濺調節(jié)的麻煩。  熱純水干燥

對應的面罩尺寸，最多7英寸。專用盒最多可裝20張。