1. 產(chǎn)品概述

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)

2. 設備用途/原理

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力，獨立工藝腔室，多可支持 6 個工藝模塊，優(yōu)異的溫度，顆?？刂颇芰?/span>，配置靈活、大產(chǎn)能、低運營成本。

3. 設備特點

晶圓尺寸 6、8 英寸，適用材料 銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁、鉻等，適用工藝 倒裝工藝、金屬電等，適用域 新興應用、科研、化合物半導體。物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術， 物理氣相沉積是主要的表面處理技術之一。