DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品標(biāo)簽

灰度光刻

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公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng)，軟件著作權(quán) 14 項(xiàng)，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

冷熱臺(tái)，快速退火爐，光刻機(jī)，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

寫(xiě)入模式	我	第二	第三	四	V
寫(xiě)作性能 - 灰度
覆蓋層 [3σ， nm]（超過(guò) 8“ x 8”）			300
像素網(wǎng)格灰度 [nm]	100	200	250	500	1000
寫(xiě)入速度 DWL 2000 GS [mm2/分鐘]	12	50	75	270	870
寫(xiě)入速度 DWL 4000 GS [mm2/分鐘]	12	50	75	270	1000
暴露時(shí)間 DWL 2000 GS：適用于 200 mm x 200 mm [小時(shí)]	51	13.5	9	2.5	0.8
曝光時(shí)間 DWL 4000 GS：適用于 400 mm x 400 mm [小時(shí)]	223	54	36	10	3
最大劑量 [mJ/cm2 ]	5600	1400	900	225	50

寫(xiě)入性能 - 二進(jìn)制
最小特征尺寸 [μm]	0.5	0.7	0.8	1	2
最小行數(shù)和間距 [μm]	0.7	0.9	1	1.5	3
地址網(wǎng)格 [nm]	5	10	12.5	25	50
邊緣粗糙度 [3σ， nm]	40	50	60	80	110
CD均勻度 [3σ， nm]	60	70	80	130	180
注冊(cè) [3σ， nm]	200	200	200	200	200
寫(xiě)入速度 [mm2/minute] DWL 2000 GS	12	50	75	270	870
寫(xiě)入速度 [mm2/minute] DWL 4000 GS	12	50	75	270	1000

系統(tǒng)特點(diǎn)
光源	405 nm 的二極管激光器
最大基板尺寸	DWL 2000 GS：9 英寸 x 9 英寸 / DWL 4000 GS：17 英寸 x 17 英寸
基板厚度	0 至 12 mm
最大曝光面積	DWL 2000 GS：200 x 200 平方毫米 / DWL 4000 GS：400 x 400 平方毫米
溫控流量箱	溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°，ISO 4 環(huán)境
實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦	光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦或氣壓計(jì)自動(dòng)對(duì)焦
自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償范圍	80微米

系統(tǒng)尺寸
光刻單元（寬度×深度×高度）;重量	2350 毫米× 1650 毫米× 2100 毫米;3000 千克
電子架（寬度×深度×高度）;重量	800 毫米× 600 毫米× 1800 毫米;180 千克

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5 %， 50/60 赫茲， 16 A
壓縮空氣	6 - 10 巴
潔凈室	建議使用 ISO 6 或更高