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TRP450 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

磁控濺射薄膜

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1.產(chǎn)品概述:
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設(shè)備用途:
可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。
3.用戶評(píng)價(jià):
TRP-450高真空鍍膜機(jī)其設(shè)備質(zhì)量過(guò)關(guān),功能齊全,性能穩(wěn)定,自動(dòng)化程度高,抽氣速平穩(wěn),電源穩(wěn)定可靠,氣路流暢密閉,鍍膜質(zhì)量平整光滑,均勻致密,結(jié)合力強(qiáng),且系統(tǒng)操控智能,便捷,可滿足科研實(shí)驗(yàn)與生產(chǎn)制造的需求,是一款優(yōu)秀的磁控濺射鍍膜系統(tǒng)?!本┦┘夹g(shù)研究院有限公司 李老師
4.真空室:

真空室結(jié)構(gòu):圓筒形開門
真空室尺寸:φ450x400mm
限真空度:≤6.6E-6Pa
沉積源:永磁靶3套,φ2英寸,可以向上濺射或向下濺射。
樣品尺寸,溫度:φ4英寸,1片,高800℃
占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約1米×1.8米×2米
電控描述:全自動(dòng)
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤±3%




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