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Compact 21 MBE分子束外延系統(tǒng)

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產(chǎn)品標(biāo)簽

分子束外延薄膜沉積緊湊型MBE

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1 產(chǎn)品概述:

   Riber分子束外延(MBE)系統(tǒng)是一款在半導(dǎo)體及光電子領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的先進(jìn)設(shè)備,以其高精度、高純度和低溫生長的特點(diǎn)而著稱。該系統(tǒng)能夠在超高真空環(huán)境下,通過精確控制分子束的流量和速度,實現(xiàn)原子層級的材料沉積,從而生長出具有優(yōu)異性能的薄膜材料。Riber公司其MBE系統(tǒng)涵蓋了多種型號,如MBE 6000-Multi4英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)等,以滿足不同規(guī)模和需求的生產(chǎn)場景。

2 設(shè)備用途:

  半導(dǎo)體制造:Riber MBE系統(tǒng)可用于生長高質(zhì)量的半導(dǎo)體材料,如GaAs、InP、GaN等,這些材料是制造晶體管、二極管、激光器等微電子器件的關(guān)鍵。通過MBE技術(shù),可以精確控制材料的組分、厚度和界面結(jié)構(gòu),從而優(yōu)化器件的性能。

  光電子器件:在光電子領(lǐng)域,Riber MBE系統(tǒng)可用于制造太陽能電池、LED、光電探測器等器件。利用MBE技術(shù)生長的量子點(diǎn)等結(jié)構(gòu),可以顯著提升這些器件的光電轉(zhuǎn)換效率和性能穩(wěn)定性。

  量子點(diǎn)研究:MBE系統(tǒng)還廣泛應(yīng)用于量子點(diǎn)的研究和生產(chǎn)中。量子點(diǎn)是一種具有光電特性的納米材料,通過MBE技術(shù)可以精確控制其尺寸、形狀和組分,從而制備出性能優(yōu)異的量子點(diǎn)材料。

3 設(shè)備特點(diǎn)

  高精度沉積:Riber MBE系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)原子層級的材料沉積控制,確保薄膜的高質(zhì)量和均勻性。這種高精度沉積能力使得MBE系統(tǒng)在制造高性能微電子和光電子器件方面具有優(yōu)勢。

  高真空環(huán)境:系統(tǒng)配備先進(jìn)的真空系統(tǒng),提供超高真空環(huán)境,有效減少雜質(zhì)和污染,保證晶體沉積的純度和質(zhì)量。

  低溫生長:MBE技術(shù)采用低溫生長方式,有效避免界面原子的互擴(kuò)散和缺陷的形成,從而生長出高質(zhì)量的薄膜材料。

    多源端口設(shè)計:部分型號如4英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)可配備多個源端口,以滿足不同材料的沉積需求,有助于生長復(fù)雜的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。




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