化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>掩模版和中間掩模版制造設(shè)備>掩模光刻膠處理及清洗設(shè)備>MaskTrack Pro 掩膜版清洗系統(tǒng)
MaskTrack Pro 掩膜版清洗系統(tǒng)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 SUSS
- 型號 MaskTrack Pro
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/6/6 8:31:14
- 訪問次數(shù) 636
聯(lián)系方式：謝澤雨19842703026 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
1.產(chǎn)品概述：
掩模的完整性對高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)大限度地提高光掩模性能。
2.產(chǎn)品優(yōu)勢：
MaskTrack Pro 允許用第三方的產(chǎn)品擴(kuò)展工具集群，并提供一個方法，在全控、高潔環(huán)境中存儲、處理和加工光掩模。模塊化設(shè)計確保其具有高度的靈活性并能高度適應(yīng)客戶的要求。MaskTrack Pro 在次運(yùn)行就能提供佳的清潔效果。
3.產(chǎn)品工藝：
物理清洗：
該系統(tǒng)為濕法清洗提供多種物理力技術(shù)，包括高可達(dá)3個的預(yù)清洗與終清洗腔室，用于剝離隔離、預(yù)清洗和終清洗工藝。
原位紫外表面處理與清洗技術(shù)
頻率高達(dá)4 MHz的高頻雙兆聲波清洗
精密的納米二元噴霧
聚焦點(diǎn)清洗
化學(xué)清洗：
DIW-H20脫氣，用于控制兆聲波工藝中的空化控制
超潔凈的冷/熱CO2-DI水
臭氧DI水和pH值穩(wěn)定的電解H2
超稀釋的SC1
用于進(jìn)一步減少圖案損傷的堿基新介質(zhì)
15 nm工藝介質(zhì)過濾間
采購中心
化工儀器網(wǎng)