PISC系列 等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備
- 公司名稱 安徽純源鍍膜科技有限公司
- 品牌
- 型號 PISC系列
- 產(chǎn)地 安徽省合肥市蜀山區(qū)大別山路1599號環(huán)新集團(tuán)聯(lián)合廠房1號安徽純源鍍膜科技有限公司
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/12/6 10:52:29
- 訪問次數(shù) 185
聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,航空航天 |
|---|
PISC系列等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備
一、設(shè)備功能簡介
1、純離子鍍膜源，采用高效電磁過濾系統(tǒng)，有效祛除顆粒，獲得更高純度的離子束流，幫助提升涂層基礎(chǔ)硬度及結(jié)合力；
2、高能離子束清洗源，采用特殊設(shè)計(jì)的放電結(jié)構(gòu)，有效兼容了等離子清洗活化、輔助電離、獨(dú)立沉積等功能;
3、磁控濺射源，采用創(chuàng)新的磁場設(shè)計(jì)，有效提升靶材利用率30%以上;
4、磁約束氣相沉積源，可靠且易于維護(hù)的結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)快速而又細(xì)膩的涂層沉積。
二、主要特點(diǎn)及技術(shù)優(yōu)勢
1、等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備可實(shí)現(xiàn)TAC-DLC的組合，比單純CVD的結(jié)合力大幅度提升，同時(shí)降低了PVD的顆粒度，縮短工藝時(shí)間;
2、可實(shí)現(xiàn)多種工藝C膜沉積，純離子鍍TAC，磁約束放電DLC，陽極層離子源鍍DLC等;
3、設(shè)有電磁掃描裝置和軟件，可定點(diǎn)定時(shí)控制等離子體的束流方向，極大改善了鍍膜均勻性問題，整爐膜層均勻性控制±5%以下;
4、優(yōu)化的磁場設(shè)計(jì)及冷卻設(shè)計(jì)，維護(hù)方便，設(shè)備穩(wěn)定性好;
5、友好的人機(jī)界面，實(shí)時(shí)記錄工藝數(shù)據(jù)，利于質(zhì)量管控、疑難分析、開發(fā)新工藝等;
6、本項(xiàng)目為交鑰匙設(shè)備，純源公司提供整套解決方案，包括穩(wěn)定成熟鍍膜配方。
三、設(shè)備參數(shù)
| 型號 | PISC-6141 |
| 真空室結(jié)構(gòu) | 立式 |
| 純離子鍍膜源 | 6個(gè) |
| 磁控濺射源 | 4個(gè) |
| 線性離子源 | 4個(gè) |
| 磁約束氣相沉積源 | 1套 |
| 備注 | 設(shè)備可根據(jù)客戶需求進(jìn)行定制 |
四、膜層系列
| DLC系列 | DLC |
| TAC系列 | H-TAC |
| Si-TAC | |
| N-TAC | |
| F-TAC |
典型涂層類型:
(1)Me-TAC，金屬TAC復(fù)合涂層，應(yīng)用廣泛；
(2)Me-DLC，金屬DLC復(fù)合涂層，應(yīng)用廣泛；
(3)Me-TAC-DLC，TAC-DLC復(fù)合涂層，獲得TAC更高基礎(chǔ)硬度與結(jié)合力的同時(shí)，兼有DLC的沉積速率及細(xì)膩外觀。
五、應(yīng)用領(lǐng)域
1、高校及科研院所；
2、特殊功能零部件；
3、工業(yè)領(lǐng)域：切削工具、注塑模具、紡織零配件等。
注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實(shí)驗(yàn)室-檢測結(jié)果
采購中心
化工儀器網(wǎng)