光刻機又名掩模對準(zhǔn)曝光機，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設(shè)計好的集成電路模板復(fù)刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。
根據(jù)光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據(jù)其是否需要使用掩模版細(xì)分為有掩模和無掩模兩種。無掩模光刻機是一種不需要使用傳統(tǒng)掩模版的光刻機，它通過直接對晶圓進(jìn)行曝光，實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩模光刻機不需要掩模版、高度靈活的優(yōu)點，使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機械等領(lǐng)域。

科研版無掩模光刻機具有高靈活性、高精度、無掩模的優(yōu)勢，非常適用于科學(xué)研究。

ACA系列是科研版無掩模光刻機，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實現(xiàn)了數(shù)字掩模光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究的選擇。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡單。其原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列無掩模光刻機為科研工作提供了強大的支持，助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。

ACA無掩模光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進(jìn)光刻

無掩模光刻機

ACA Pro無掩模光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進(jìn)光刻

無掩模光刻機

ACA Master無掩模光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

掃描光刻/步進(jìn)光刻 可切換

無掩模光刻機