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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>CY-PECVD100-1200-Q CVD化學氣相沉積系統(tǒng)

CY-PECVD100-1200-Q CVD化學氣相沉積系統(tǒng)

參考價 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-PECVD100-1200-Q
  • 產地
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2024/12/17 11:44:27
  • 訪問次數 130

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設備研發(fā)、生產和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經驗,先后研發(fā)出了多款*材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發(fā),使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業(yè)界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業(yè)務洽談。

 

管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

簡單介紹:

CVD化學氣相沉積系統(tǒng)廣泛應用于材料科學和工程領域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導體、光電子、能源、生物醫(yī)學等領域都有重要應用

詳情介紹:

CVD氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術,通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應,形成薄膜。


1. 反應室溫度:通常在幾百到千度之間,具體取決于所需的反應溫度和材料。


2. 反應氣體:根據所需的薄膜材料和結構,可以使用不同的反應氣體,如氨氣、氫氣、氧氣、二氧化硅等。


3. 壓力范圍:通常在幾百帕到幾千帕之間,具體取決于反應物質和反應條件。


4. 反應時間:根據所需的薄膜厚度和質量,反應時間可以從幾分鐘到幾小時不等。


5. 基底材料:CVD系統(tǒng)可以用于各種基底材料,如硅、玻璃、金屬等。


6. 應用領域:CVD氣相沉積系統(tǒng)廣泛應用于材料科學和工程領域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導體、光電子、能源、生物醫(yī)學等領域都有重要應用。

CVD化學氣相沉積系統(tǒng)

技術參數:

產品名稱

CVD化學氣相沉積系統(tǒng)

產品型號

CY-PECVD100-1200-Q

頻電源

信號頻率

13.56MHz±0.005%

功率輸出

0~300W

*大反射功率

100W

反射功率

<3W (*大功率時)

功率穩(wěn)定性

±0.1%

管式爐

管子材質

高純石英

管子外徑

100mm

爐膛長度

440mm

加熱區(qū)長度

200mm+200mm (雙溫區(qū))

連續(xù)工作溫度

≦1100℃

溫控精度

±1℃

溫控模式

30段程序控溫

顯示模式

LCD觸摸屏

密封方式

304 不銹鋼真空法蘭

供氣系統(tǒng)

通道數

6通道

測量單元

質量流量計

測量范圍

A 通道: 0~200SCCM, 氣體為H2  

B 通道: 0~200SCCM,氣體為CH4

C 通道: 0~200SCCM,氣體為 C2H4

D通道: 0~500SCCM,氣體為 N2

E通道: 0~500SCCM,氣體為 NH3

F通道: 0~500SCCM, 氣體為 Ar

測量精度

±1.5%F.S

工作壓差

-0.15Mpa~0.15Mpa

接頭規(guī)格

1/4" 卡套接頭

氣體混合罐

1L

真空系統(tǒng)

機械泵

雙極旋片泵

抽速

1.1L/S   

真空測量

電阻規(guī)

極限真空

0.1Pa

抽氣接口

KF16

滑  軌

爐體可以滑動,實現(xiàn)快速降溫

供電電源

AC220V 50Hz




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