產品概述

科研級三目正置金相顯微鏡明暗場LH-71A正置金相顯微鏡適用于對不透明物體的顯微觀察。采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與模塊化功能設計理念，可以方便升級系統(tǒng)，實現偏光觀察、暗場觀察等功能，緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現了顯微操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金相組織及表面形態(tài)的顯微觀察，是金屬學、礦物學、精密工程學研究的理想儀器。

1. 主要特點

• 正置設計：物鏡位于樣品上方，適合觀察小型或薄片樣品。

• 三目鏡筒：支持雙目觀察和第三目連接攝像頭，便于圖像采集和記錄。

• 科研級三目正置金相顯微鏡明暗場：支持明場（Brightfield）和暗場（Darkfield）兩種觀察模式，適用于不同樣品的顯微分析。

• 高分辨率：采用優(yōu)質光學鏡片和照明系統(tǒng)，成像清晰，細節(jié)表現力強。

• 多功能性：支持偏光、微分干涉（DIC）等高級觀察模式（根據配置）。

2. 主要組成部分

• 光學系統(tǒng)：包括物鏡、目鏡和聚光鏡，提供高清晰度的圖像。

• 三目鏡筒：兩個目鏡用于觀察，一個目鏡用于連接攝像頭或相機。

• 物鏡轉換器：支持多物鏡切換，通常配置5X、10X、20X、50X、100X等物鏡。

• 載物臺：機械式或電動式載物臺，可精確移動樣品。

• 照明系統(tǒng)：反射光照明，支持明場和暗場觀察模式。

• 調焦系統(tǒng)：粗調和微調旋鈕，用于精確聚焦。

• 攝像頭接口：支持連接數碼相機或攝像頭，進行圖像采集和分析。

3. 應用領域

• 材料科學：用于金屬、陶瓷、復合材料等的金相分析。

• 半導體行業(yè)：用于晶圓、芯片等微觀結構的觀察和分析。

• 質量控制：在制造業(yè)中用于檢測材料的微觀結構和缺陷。

• 科研教育：在高校和科研機構中用于教學和研究。

• 失效分析：用于分析材料斷裂或失效的原因。

4. 技術參數

• 放大倍數：通常為50X至1000X（取決于物鏡和目鏡組合）。

• 物鏡：配置5X、10X、20X、50X、100X等物鏡，支持干鏡和油鏡。

• 照明系統(tǒng)：LED或鹵素燈光源，亮度可調。

• 載物臺：機械式載物臺（手動）或電動載物臺（自動），移動范圍通常為75mm x 50mm。

• 攝像頭分辨率：根據攝像頭型號，分辨率從500萬像素到2000萬像素不等。

5. 明場和暗場觀察模式

明場（Brightfield）

• 原理：光線直接通過物鏡照射樣品，反射光進入物鏡形成圖像。

• 特點：適合觀察表面平整、反射率高的樣品，如金屬拋光面。

• 應用：用于觀察材料的晶粒結構、夾雜物、裂紋等。

暗場（Darkfield）

• 原理：光線以傾斜角度照射樣品，只有散射光進入物鏡形成圖像。

• 特點：適合觀察表面粗糙或低反射率的樣品，如微小顆粒、劃痕等。

• 應用：用于觀察材料的表面缺陷、微小顆粒分布等。

  
  

詳細參數